Surface reaction mechanisms for plasma enhanced atomic layer etching process by organic compounds

有机化合物等离子体增强原子层刻蚀工艺的表面反应机制

基本信息

批准号：
18K13532
负责人：
Ito Tomoko
金额：
$ 2.58万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2018
资助国家：
日本
起止时间：
2018-04-01 至 2021-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（12）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Analyses of Hexafluoroacetylacetone (Hfac) Adsorbed on Transition Metal Surfaces

过渡金属表面吸附的六氟乙酰丙酮 (Hfac) 的分析

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tomoko Ito;Kazuhiro Karahashi;Satoshi Hamaguchi
通讯作者：
Satoshi Hamaguchi

ヘキサフルオロアセチルアセトンによる遷移金属(Ni, Co)におけるサーマルエッチング反応解析

使用六氟乙酰丙酮对过渡金属（Ni、Co）进行热蚀刻反应分析

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
伊藤智子;唐橋一浩;浜口智志
通讯作者：
浜口智志

遷移金属におけるβジケトンによるサーマルエッチング表面反応解析

过渡金属中β-二酮的热蚀刻表面反应分析

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
伊藤智子;唐橋一浩;浜口智志
通讯作者：
浜口智志

(19)“Mechanisms for Atomic Layer Etching of Metal Films by the Formation of Beta-diketonate Metal Complexes

(19)“通过形成β-二酮金属配合物对金属薄膜进行原子层蚀刻的机制”

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tomoko Ito;Kazuhiro Karahashi;Satoshi Hamaguchi
通讯作者：
Satoshi Hamaguchi

Etching reactions by polyatomic ion containing fluorine atoms

含氟原子的多原子离子的蚀刻反应

DOI：
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tomoko Ito;Kazuhiro Karahashi;Takuya Hirohash;Junichi Hashimoto;Mitsuhiro Omura;Hisataka Hayashi;Satoshi Hamaguchi
通讯作者：
Satoshi Hamaguchi

DOI：
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作者：
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Ito Tomoko其他文献

Alexander polynomial(s) from diagram counts

来自图表计数的亚历山大多项式

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Otani Shohei;Date Yuki;Ueno Tomoya;Ito Tomoko;Kajikawa Shuhei;Omori Keisuke;Taniuchi Ichiro;Umeda Masahiro;Komori Toshihisa;Toguchida Junya;Ito Kosei;Tomohiro Sawa;David Leturcq
通讯作者：
David Leturcq

卵殻膜ペプチドを修飾した電界紡糸 PVA ナノファイバーの作製と細胞培養基板への応用

蛋壳膜肽修饰电纺PVA纳米纤维的制备及其在细胞培养基质中的应用

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Ito Tomoko;Yamaguchi Shingo;Soga Daisuke;Yoshimoto Takayuki;Koyama Yoshiyuki;伊勢裕彦;吉川貴士・和久友則・小堀哲生・田中直毅
通讯作者：
吉川貴士・和久友則・小堀哲生・田中直毅

Synergistic effect of topical application of TRP channel antagonists on experimental tooth movement-induced pain

局部应用 TRP 通道拮抗剂对实验性牙齿移动引起的疼痛的协同作用

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Otani Shohei;Date Yuki;Ueno Tomoya;Ito Tomoko;Kajikawa Shuhei;Omori Keisuke;Taniuchi Ichiro;Umeda Masahiro;Komori Toshihisa;Toguchida Junya;Ito Kosei;湯川未郷，佐藤慶太郎，須田直人，安達一典
通讯作者：
湯川未郷，佐藤慶太郎，須田直人，安達一典

Erratum: “Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)2 on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes” [J. Vac. Sci. Technol. A 38, 052602 (2020)]

勘误：“原子层蚀刻过程中六氟乙酰丙酮镍 Ni(hfac)2 的形成和解吸”[J. Vac. Technol.

DOI：
10.1116/6.0001319
发表时间：
2021
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology A
影响因子：
2.9
作者：
Basher Abdulrahman H.;Krstic Marjan;Fink Karin;Ito Tomoko;Karahashi Kazuhiro;Wenzel Wolfgang;Hamaguchi Satoshi
通讯作者：
Hamaguchi Satoshi

Stability of hexafluoroacetylacetone molecules on metallic and oxidized nickel surfaces in atomic-layer-etching processes

原子层蚀刻过程中金属和氧化镍表面六氟乙酰丙酮分子的稳定性

DOI：
10.1116/1.5127532
发表时间：
2020
期刊：
Journal of Vacuum Science & Technology A
影响因子：
2.9
作者：
Basher Abdulrahman H.;Krstic Marjan;Takeuchi Takae;Isobe Michiro;Ito Tomoko;Kiuchi Masato;Karahashi Kazuhiro;Wenzel Wolfgang;Hamaguchi Satoshi
通讯作者：
Hamaguchi Satoshi