Spatial Distribution Analysis of Photo Resist Using Resonant Soft X-ray Reflectmetry and Scattering methods
使用共振软 X 射线反射测量和散射方法分析光刻胶的空间分布
基本信息
- 批准号：19K12644
- 负责人：
- 金额：$ 2.75万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2019
- 资助国家：日本
- 起止时间：2019-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（17）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Analysis of Chemical Contents Spatial Distribution in EUV Resist Using Resonant Soft X-ray Scattering Method
采用共振软 X 射线散射法分析 EUV 光刻胶中化学成分的空间分布
- DOI：10.2494/photopolymer.33.491
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：0.8
- 作者：Tanaka Jun;Ishiguro Takuma;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo
- 通讯作者：Watanabe Takeo
軟Ｘ線共鳴反射率法による単層レジストプロセス用フォトレジストの相分離構造評価
软X射线共振反射法评价单层光刻胶工艺光刻胶的相分离结构
- DOI：
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：石黒 巧真;田中 淳;原田 哲男;渡邊 健夫
- 通讯作者：渡邊 健夫
Resonant Soft X-ray Scattering for the Stochastic Origin Analysis in EUV Resist
用于 EUV 抗蚀剂随机原点分析的共振软 X 射线散射
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：7.Jun Tanaka; Takuma Ishiguro; Tetsuo Harada;Takeo Watanabe
- 通讯作者：Takeo Watanabe
Resonant Soft X-ray Reflectivity for the Chemical Analysis in Thickness Direction of EUV Resist
用于 EUV 光刻胶厚度方向化学分析的共振软 X 射线反射率
- DOI：10.2494/photopolymer.32.333
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0.8
- 作者：Ishiguro Takuma;Tanaka Jun;Harada Tetsuo;Watanabe Takeo
- 通讯作者：Watanabe Takeo
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Roles of Vocabulary Knowledge for Success in English-Medium Instruction: Self-Perceptions and Academic Outcomes of Japanese Undergraduates
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- DOI：
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- 影响因子：1.5
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Watanabe Takeo
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- 影响因子：0.8
- 作者：
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- 批准号：
16K02982 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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21K12523 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
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- 批准号：
25286085 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)