Development of high performance resist removal technique using laser irradiation for environmental load reduction in semiconductor production

开发利用激光照射的高性能抗蚀剂去除技术，以减少半导体生产中的环境负荷

• 批准号: 18K04273
• 负责人: Kamimura Tomosumi
• 金额: $ 2.58万
• 依托单位: Osaka Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2018
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2018-04-01 至 2021-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18K04273/
• 关键词: レーザー照射; レジスト剥離; 高速イメージング; 有限要素法解析; オゾンマクロバブル; オゾン水; オゾンマイクロバブル水; レジスト剥離現象; レジスト剥離メカニズム; レジスト除去技術; 剥離効率

项目成果

時間分解解析を用いたレーザー照射によるレジスト剥離現象の解明

使用时间分辨分析阐明激光照射引起的抗蚀剂剥离现象

• 发表时间: 2018
• 作者: 西岡直樹;梅田悠史;舩本裕介;島大地;倉前宏行;神村共住;堀邊英夫;吉村政志;中村亮介
• 通讯作者: 中村亮介

Time-resolved imaging of photoresist stripping dynamics induced by laser irradiation

激光照射引起的光刻胶剥离动力学的时间分辨成像

• 发表时间: 2019
• 作者: N. Nishioka;Y. Umeda;D. Shima;K. Ono;T. Kamimura;H. Horibe;M. Yoshimura;and R. Nakamura
• 通讯作者: and R. Nakamura

A Comparison of Removal Phenomena in Photoresist Materials Using Laser Irradiation

激光照射光刻胶材料去除现象的比较

• DOI: 10.2494/photopolymer.32.603
• 发表时间: 2019
• 期刊: Journal of Photopolymer Science and Technology
• 影响因子: 0.8
• 作者: Tomosumi Kamimura;Naoki Nishioka;Yuji Umeda;Daichi Shima;Yusuke Funamoto;Yoshiyuki Harada;Masashi Yoshimura;Ryosuke Nakamura;and Hideo Horibe
• 通讯作者: and Hideo Horibe

時間分解解析を用いたレーザー照射によるレジスト剥離現象の解明I

使用时间分辨分析阐明激光照射引起的抗蚀剂剥离现象 I

• 发表时间: 2019
• 作者: 西岡直樹;梅田悠史;舩本裕介;島大地;神村共住;堀邊英夫;吉村政志;中村亮介
• 通讯作者: 中村亮介

Comparison of removal phenomenon in photoresist material using laser irradiation

激光照射去除光刻胶材料的现象比较

• 发表时间: 2019
• 作者: Tomosumi Kamimura;Naoki Nishioka,Yuji Umeda;Daichi Shima,Yusuke Funamoto,Yoshinori Harada;Masashi Yoshimura;Ryosuke Nakamura,Hideo Horibe
• 通讯作者: Ryosuke Nakamura,Hideo Horibe