Development of non-thermal formation method for high-quality zinc oxide thin films using atmospheric pressure low temperature plasma
利用常压低温等离子体非热形成高质量氧化锌薄膜的方法的开发
基本信息
- 批准号:18K04094
- 负责人:
- 金额:$ 2.83万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2018
- 资助国家:日本
- 起止时间:2018-04-01 至 2023-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Observation of planar type atmospheric pressure plasma formed by tri-electrode dielectric barrier discharge
三电极介质阻挡放电形成平面型常压等离子体的观测
- DOI:
- 发表时间:2023
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu
- 通讯作者:Hiroshi Akamatsu
Metal organic plasma decomposition method for formation of zinc oxide thin film with low temperature and under atmospheric pressure
低温常压金属有机等离子体分解形成氧化锌薄膜的方法
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu and K. Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto,Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu,Shin-ichi Yamamoto,and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa
- 通讯作者:H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa
Plasma-assisted synthesis of zinc oxide thin film using two different precursor materials
使用两种不同前驱体材料的等离子体辅助合成氧化锌薄膜
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu and K. Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto,Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu,Shin-ichi Yamamoto,and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa;赤松 浩, 山本 伸一, 市川 和典;Ko-ya Kuriyama, Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
- 通讯作者:Ko-ya Kuriyama, Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
Plasma-assisted formation of oxide thin film at atmospheric pressure and unheated process
常压、不加热过程中等离子体辅助形成氧化物薄膜
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu and K. Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto,Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu,Shin-ichi Yamamoto,and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa;赤松 浩, 山本 伸一, 市川 和典;Ko-ya Kuriyama, Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Ko-ya Kuriyama, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
- 通讯作者:Hiroshi Akamatsu, Ko-ya Kuriyama, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
Application of Sliding Discharge with Tri-electrode Dielectric Barrier Discharge for Formation of Planar Atmospheric Pressure Plasma
应用滑动放电三电极介质阻挡放电形成平面大气压等离子体
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu
- 通讯作者:Hiroshi Akamatsu
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竹安希実香・内山雄介
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