Development of non-thermal formation method for high-quality zinc oxide thin films using atmospheric pressure low temperature plasma

利用常压低温等离子体非热形成高质量氧化锌薄膜的方法的开发

基本信息

  • 批准号:
    18K04094
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Observation of planar type atmospheric pressure plasma formed by tri-electrode dielectric barrier discharge
三电极介质阻挡放电形成平面型常压等离子体的观测
  • DOI:
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu
  • 通讯作者:
    Hiroshi Akamatsu
Metal organic plasma decomposition method for formation of zinc oxide thin film with low temperature and under atmospheric pressure
低温常压金属有机等离子体分解形成氧化锌薄膜的方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu and K. Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto,Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu,Shin-ichi Yamamoto,and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa
  • 通讯作者:
    H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa
Plasma-assisted synthesis of zinc oxide thin film using two different precursor materials
使用两种不同前驱体材料的等离子体辅助合成氧化锌薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu and K. Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto,Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu,Shin-ichi Yamamoto,and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa;赤松 浩, 山本 伸一, 市川 和典;Ko-ya Kuriyama, Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
  • 通讯作者:
    Ko-ya Kuriyama, Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
Plasma-assisted formation of oxide thin film at atmospheric pressure and unheated process
常压、不加热过程中等离子体辅助形成氧化物薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu and K. Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto,Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu,Shin-ichi Yamamoto,and Kazunori Ichikawa;H. Akamatsu, S. Yamamoto, K. Ichikawa;赤松 浩, 山本 伸一, 市川 和典;Ko-ya Kuriyama, Hiroshi Akamatsu, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa;Hiroshi Akamatsu, Ko-ya Kuriyama, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
  • 通讯作者:
    Hiroshi Akamatsu, Ko-ya Kuriyama, Shin-ichi Yamamoto, Kazunori Ichikawa
Application of Sliding Discharge with Tri-electrode Dielectric Barrier Discharge for Formation of Planar Atmospheric Pressure Plasma
应用滑动放电三电极介质阻挡放电形成平面大气压等离子体
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高 義礼;高義礼,藤原修;高義礼,川又憲,石上忍,嶺岸茂樹,藤原修;高 義礼;Yoshinori Taka and Osamu Fujiwara;高義礼,藤原修;Hiroshi Akamatsu;Hiroshi Akamatsu
  • 通讯作者:
    Hiroshi Akamatsu
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  • 通讯作者:
    竹安希実香・内山雄介

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