耐摩耗性高摺動膜の超高速成膜メカニズム解明による大面積均一成膜技術の開発
阐明耐磨高滑膜的超高速成膜机理,开发大面积均匀成膜技术
基本信息
- 批准号:24K07452
- 负责人:
- 金额:$ 3万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2024
- 资助国家:日本
- 起止时间:2024-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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会议论文数量(0)
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針谷 達其他文献
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- 影响因子:0
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- 影响因子:0
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- DOI:
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手老 龍吾
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周期性N-DLC/WC叠层结构导电耐磨薄膜的制备
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
爲國 公貴;針谷 達;出貝 敏;谷本 壮;須田 善行;滝川 浩史;鷹合 滋樹;安井 治之;金子 智;國次 真輔;神谷 雅男;瀧 真 - 通讯作者:
瀧 真
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