Fabrication of infrared devices via anisotropical Si etching in KOH solution

通过 KOH 溶液中各向异性硅蚀刻制造红外器件

基本信息

  • 批准号:
    19K05315
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(13)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Fabrication of polarization colour filter device via direct Au film imprinting
通过直接金膜压印制造偏振滤色片器件
  • DOI:
    10.1080/09500340.2021.1936245
  • 发表时间:
    2021-06-25
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.3
  • 作者:
    I. Yamada
  • 通讯作者:
    I. Yamada
Resolving spatial and energetic distributions of trap states in metal halide perovskite solar cells
解析金属卤化物钙钛矿太阳能电池中陷阱态的空间和能量分布
  • DOI:
    10.1126/science.aba0893
  • 发表时间:
    2020-03-19
  • 期刊:
  • 影响因子:
    56.9
  • 作者:
    Zhenyi Ni;Chunxiong Bao;Ye Liu;Qi Jiang;Wu‐Qiang Wu;Shangshang Chen;Xuezeng Dai;Bo Chen;Ba
  • 通讯作者:
    Ba
斜め蒸着法を利用したAu 二次元サブ波長周期構造の形成と評価
倾斜蒸发法Au二维亚波长周期结构的形成与评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木屋 暁貴;山田 逸成
  • 通讯作者:
    山田 逸成
光インプリントで形成される樹脂薄膜格子を用いた赤外用ワイヤグリッド偏光子
采用光学压印形成的树脂薄膜栅格的红外线栅偏振器
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    園田祐生;山田逸成
  • 通讯作者:
    山田逸成
ゾル-ゲル法を用いて成膜したジルコニア薄膜の赤外評価
溶胶-凝胶法形成的氧化锆薄膜的红外评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    村松泰雅;鳥居大希;山田逸成
  • 通讯作者:
    山田逸成
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Fabrication and evaluation of infrared element by low-temperature imprint processing with sol-gel method
溶胶-凝胶法低温压印红外元件的制备与评价
  • 批准号:
    15K04698
  • 财政年份:
    2015
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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