High-rate sputter deposition technique by controlling surface states of substrate and target independently
独立控制基底和靶材表面状态的高速溅射沉积技术
基本信息
- 批准号：19K05090
- 负责人：
- 金额：$ 2.83万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2019
- 资助国家：日本
- 起止时间：2019-04-01 至 2023-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（14）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Reactive sputter deposition of β-Ni(OH)2 thin films in Ar + H2O mixed gas atmosphere at a substrate temperature of －80 °C
-80 °C 基板温度下 Ar + H2O 混合气体气氛中反应溅射沉积 β-Ni(OH)2 薄膜
- DOI：10.35848/1347-4065/acc999
- 发表时间：2023
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Yoshio Abe; Masaki Kataoka; Yuki Yokoiwa; Midori Kawamura; Kyung Ho Kim; Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
High-rate sputter deposition of chromium oxide thin films using water vapor as a reactive gas
使用水蒸气作为反应气体高速溅射沉积氧化铬薄膜
- DOI：10.1016/j.surfcoat.2020.125509
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：5.4
- 作者：Fan Wang; Yoshio Abe; Midori Kawamura; Kyung Ho Kim; Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
Reactive sputtering of tantalum oxide solid-electrolyte thin films under metallic-target mode by water vapor injection
金属靶材模式下水蒸气注入反应溅射氧化钽固体电解质薄膜
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yusuke Ito; Yoshio Abe; Midori Kawamura; Kyung Ho Kim; Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
High-rate sputter deposition of chromium oxide thin films under metallic target mode using water vapor as a reactive gas
水蒸气作为反应气体在金属靶模式下高速溅射沉积氧化铬薄膜
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Fan Wang; Yoshio Abe; Midori Kawamura; Kyung Ho Kim; Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
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$ 2.83万 - 项目类别：
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19K04514 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
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20360076 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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- 批准号：
19560701 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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- 批准号：
17686063 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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- 批准号：
06J11292 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows