Investigation and controlling of a quasi-dopant effect at a ferroelectric charged surface and interface

铁电带电表面和界面的准掺杂效应的研究和控制

基本信息

  • 批准号:
    19K04495
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.83万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(40)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
蛍光X線ホログラフィによるMnドープBiFeO3薄膜の電場印加下における構造解析
利用荧光 X 射线全息术分析外加电场下锰掺杂 BiFeO3 薄膜的结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    加藤 廉;中嶋 誠二;藤沢 浩訓;木村 耕治;八方 直久;アン アルトニケビンロケロ;加藤 達也;山本 裕太;林 好一
  • 通讯作者:
    林 好一
ピットパターン上に作製したBiFeO?薄膜の帯電ドメインウォールの形成,MRMフォーラム2020,2020,2020,0,0
BiFeO 薄膜中凹坑图案中带电畴壁的形成,MRM 论坛 2020,2020,2020,0,0
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木村 伶志; 中嶋 誠二; 藤沢 浩訓
  • 通讯作者:
    藤沢 浩訓
Pt及びAl-doped ZnO(AZO)上でのHfO2系薄膜の結晶化
Pt 和 Al 掺杂 ZnO (AZO) 上 HfO2 基薄膜的结晶
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福島宏昌;藤沢浩訓;中嶋誠二
  • 通讯作者:
    中嶋誠二
Introduction of charged domain walls into BiFeO3 thin films using a pit-patterned SrTiO3 (001) substrate
使用凹坑图案 SrTiO3 (001) 基板将带电畴壁引入 BiFeO3 薄膜
  • DOI:
    10.7567/1347-4065/ab3897
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Nakashima; S. Kimura; Y. Kurokawa; H. Fujisawa;M. Shimizu
  • 通讯作者:
    M. Shimizu
強誘電体BiFeO3薄膜へのMnドープが局所構造および電子状態へ与える影響
Mn掺杂对铁电BiFeO3薄膜局域结构和电子态的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    中嶋誠二
  • 通讯作者:
    中嶋誠二
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Domain structure of BiFeO3 thin films grown on patterned SrTiO3(001) substrates
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  • DOI:
    10.7567/jjap.56.10pf17
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Nakashima Seiji;Seto Shota;Kurokawa Yuta;Fujisawa Hironori;Shimizu Masaru
  • 通讯作者:
    Shimizu Masaru
Assessment of polarization-related band modulation at graphene/Mn-doped BiFeO3 interfaces by photoemission electron microscopy
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  • DOI:
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  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Nakashima Seiji;Ito Tatsuya;Ohkochi Takuo;Fujisawa Hironori
  • 通讯作者:
    Fujisawa Hironori
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  • DOI:
    10.7567/1347-4065/ab045f
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Yoshimura Nao;Fujisawa Hironori;Nakashima Seiji;Shimizu Masaru
  • 通讯作者:
    Shimizu Masaru
Electric-field-induced lattice distortion in epitaxial BiFeO3 thin films as determined by in situ time-resolved x-ray diffraction
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  • DOI:
    10.1063/1.5000495
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4
  • 作者:
    Nakashima Seiji;Sakata Osami;Funakubo Hiroshi;Shimizu Takao;Ichinose Daichi;Takayama Kota;Imai Yasuhiko;Fujisawa Hironori;Shimizu Masaru
  • 通讯作者:
    Shimizu Masaru
Self-regulation of Bi/(Bi+Fe) ratio in metalorganic chemical vapor deposition of BiFeO3 thin films
BiFeO3 薄膜金属有机化学气相沉积中 Bi/(Bi Fe) 比例的自调节
  • DOI:
    10.7567/jjap.56.10pf05
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Fujisawa Hironori;Yoshimura Nao;Nakashima Seiji;Shimizu Masaru
  • 通讯作者:
    Shimizu Masaru

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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.83万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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