Development of chromatic aberration correction system for low voltage scanning electron microscope

低压扫描电镜色差校正系统的研制

基本信息

批准号：
19K04489
负责人：
Nishi Ryuji
金额：
$ 2.5万
依托单位：
Fukui University of Technology (2021-2022)Osaka University (2019-2020)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（2）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Low-aberration ExB deflector optics for scanning electron microscopy

用于扫描电子显微镜的低像差 ExB 偏转光学器件

DOI：
10.1093/jmicro/dfad001
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
1.8
作者：
Enyama Momoyo;Nishi Ryuji;Ito Hiroyuki;Yamasaki Jun
通讯作者：
Yamasaki Jun

Low-aberration ExB deflector optics for scanning electron microscopy

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DOI：
10.1093/jmicro/dfad001
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
1.8
作者：
Enyama Momoyo;Nishi Ryuji;Ito Hiroyuki;Yamasaki Jun
通讯作者：
Yamasaki Jun

低加速SEMに向けた対称線電流補正器の色収差補正への拡張

将对称线电流校正器扩展到低加速度 SEM 色差校正

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
西竜治;ホックシャヘドゥル;伊藤博之;鷹岡昭夫
通讯作者：
鷹岡昭夫

低加速SEMに向けた対称線電流補正器の色収差補正への拡張

将对称线电流校正器扩展到低加速度 SEM 色差校正

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
西竜治;ホックシャヘドゥル;伊藤博之;鷹岡昭夫
通讯作者：
鷹岡昭夫

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10.1016/j.ultramic.2018.02.002
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期刊：
影响因子：
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作者：
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通讯作者：
Nishi Ryuji

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10.1016/j.ultramic.2017.06.014
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
2.2
作者：
Hoque Shahedul;Ito Hiroyuki;Takaoka Akio;Nishi Ryuji
通讯作者：
Nishi Ryuji

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DOI：
10.1016/j.micron.2017.09.006
发表时间：
2017
期刊：
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影响因子：
2.4
作者：
Cao Meng;Nishi Ryuji;Wang Fang
通讯作者：
Wang Fang

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DOI：
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批准号：
16K06261
财政年份：
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资助金额：
$ 2.5万
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

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项目类别：
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