Study on polishing phenomenon with AFM tip scratch machining

AFM尖端划痕加工抛光现象研究

• 批准号: 19K04130
• 负责人: Matsui Shinsuke
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Chiba Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2023-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K04130/
• 关键词: AFM; 切れ刃; 研磨加工; アルミナ; SiC; スクラッチ加工; ポリシング; 石英; 研磨; ポリッシング; ダイヤモンド; メカノケミカル

项目成果

AFMスクラッチによる加工特性評価ー第10報：アルミナ，SiC触針による加工の比較検討ー

使用AFM划痕评估加工特性 - 第10次报告：使用氧化铝和SiC触针加工的比较研究 -

• 发表时间: 2021
• 作者: 礒野泰地;松井伸介
• 通讯作者: 松井伸介

AFMによる光ファイバ端面のナノ・マイクロ加工 第9報 ―SiC触針による加工の検討―

使用AFM进行光纤端面的纳米/微米加工第9次报告 - 使用SiC触针进行加工的研究 -

• 发表时间: 2020
• 作者: 赤坂孝幸;松井伸介
• 通讯作者: 松井伸介

UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価

使用 UV 直接照射辅助进行 GaN 衬底抛光的评估

• 发表时间: 2019
• 作者: 赤堀瑞樹;松井伸介;矢島利康;二宮大輔;山本栄一;坂東 翼;上田大成
• 通讯作者: 上田大成

UV直接照射アシストによるGaN基板の研磨の評価第3報 ～研磨速度に対するポリシャの効果～

使用直接紫外线照射辅助的 GaN 衬底抛光评估第三次报告 ~抛光机对抛光速率的影响 ~

• 发表时间: 2021
• 作者: 金枝知季 松井伸介;山本栄一;矢島利康 二宮大輔
• 通讯作者: 矢島利康 二宮大輔

Characterization of high-speed polishing system with small rectangular pads by quantification of material-removal amount and comparison with simulation

通过量化材料去除量并与模拟进行比较来表征具有小矩形垫的高速抛光系统

• 发表时间: 2022
• 作者: Shinsuke MATSUI ; Kouta HIROSHIMA ;Atsunobu UNE
• 通讯作者: Atsunobu UNE