Development of electrochemical dry polishing method for GaN surface using solid polymer electrolyte

固体聚合物电解质GaN表面电化学干法抛光方法的开发

基本信息

  • 批准号:
    19K04117
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(21)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
高分子電解質を用いたワイドギャップ半導体の高能率電解複合研磨
利用聚合物电解质对宽禁带半导体进行高效电解复合抛光
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    巴山顕真;チェノル シャヒラ ビンティ チェ ズルキフリ;村田順二
  • 通讯作者:
    村田順二
研磨用パッド、および導電性半導体基板の製造方法
抛光垫及导电半导体基板的制造方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
高分子電解質を用いたTiの電気化学的表面改質
使用聚合物电解质对Ti进行电化学表面改性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    JIA Pengfei;梅崎凌平;村田順二
  • 通讯作者:
    村田順二
Microstructure fabrication method using a novel electrolyte-free electrochemical treatment with patterned polymer electrolyte membranes
使用新型无电解质电化学处理和图案化聚合物电解质膜的微结构制造方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ryohei Umezaki; Junji Murata
  • 通讯作者:
    Junji Murata
高分子電解質を用いたワイドギャップ半導体の高能率電解複合研磨
利用聚合物电解质对宽禁带半导体进行高效电解复合抛光
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    巴山顕真;チェノル シャヒラ ビンティ チェ ズルキフリ;村田順二
  • 通讯作者:
    村田順二
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Prediction of vapor–liquid equilibrium for binary systems containing HFEs by using artificial neural network
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.6
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  • 影响因子:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    9.8
  • 作者:
    Murata Junji;M. Tamura;A. Sekiya
  • 通讯作者:
    A. Sekiya
Fluorination of chlorofluoroether using catalysts supported by porous aluminum fluoride
多孔氟化铝负载催化剂氟化氯氟醚
  • DOI:
    10.1016/s0022-1139(01)00483-3
  • 发表时间:
    2001-11-28
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.9
  • 作者:
    A. Sekiya;H. Quan;M. Tamura;Ren;Murata Junji
  • 通讯作者:
    Murata Junji

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  • 作者:
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  • 通讯作者:
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  • 资助金额:
    $ 2.75万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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