Systematization of Non-Charging Exposure Conditions in Electron Beam Lithography

电子束光刻中非充电曝光条件的系统化

• 批准号: 19K04519
• 负责人: KOTERA MASATOSHI
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Osaka Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2019
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2019-04-01 至 2022-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-19K04519/
• 关键词: 電子ビームリソグラフィ; レジスト帯電現象の解析; 静電気力顕微鏡; 電子ビーム誘起導電現象; 無帯電条件; フォギング電子; フォギング電子解析; 静電気力顕微鏡法; マルチスケール分析; 帯電現象の解析; 無帯電露光条件; フォギング電子空間分布測定; フォギング電子軌道追跡

项目成果

Observation of charging image of insulating film under electron beam irradiation

电子束照射下绝缘膜带电图像的观察

• 发表时间: 2019
• 作者: Kento Kubo;Hideya Mizuno;Kentaro Kojima and Masatoshi Kotera
• 通讯作者: Kentaro Kojima and Masatoshi Kotera

電子ビームリソグラフィにおける無帯電条件について

关于电子束光刻中的非静态条件

• 发表时间: 2021
• 作者: 小島 健太郎;久保 建統;河野 由伸;小寺 正敏;小寺正敏
• 通讯作者: 小寺正敏

Investigation of non-charging exposure conditions for insulating resist films in electron beam lithography

电子束光刻中绝缘抗蚀膜非充电曝光条件的研究

• DOI: 10.35848/1347-4065/abf46a
• 发表时间: 2021
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: Kubo Kento;Kojima Kentaro;Kono Yoshinobu;Kotera Masatoshi
• 通讯作者: Kotera Masatoshi

電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索

寻找电子束光刻中非静电抗蚀剂的曝光条件

• 发表时间: 2021
• 作者: 小島 健太郎;久保 建統;河野 由伸;小寺 正敏
• 通讯作者: 小寺 正敏

走査電子顕微鏡における散乱電子の定量的評価のための吸収電流の測定

测量吸收电流以定量评估扫描电子显微镜中的散射电子

• 发表时间: 2019
• 作者: 森本 健太郎;伊藤 優花;小寺 正敏
• 通讯作者: 小寺 正敏