Development of dopant environment analysis method using beam-rocking transmission electron microscopy
使用摇束透射电子显微镜进行掺杂环境分析方法的开发
基本信息
- 批准号:20K05088
- 负责人:
- 金额:$ 2.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2020
- 资助国家:日本
- 起止时间:2020-04-01 至 2023-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(11)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ReciPro: free and open-source multipurpose crystallographic software integrating a crystal model database and viewer, diffraction and microscopy simulators, and diffraction data analysis tools
<i>ReciPro</i>:免费开源多用途晶体学软件,集成了晶体模型数据库和查看器、衍射和显微镜模拟器以及衍射数据分析工具
- DOI:10.1107/s1600576722000139
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:6.1
- 作者:Seto Yusuke;Ohtsuka Masahiro
- 通讯作者:Ohtsuka Masahiro
ReciPro: free and open-source multipurpose crystallographic software integrating a crystal model database and viewer, diffraction and microscopy simulators, and diffraction data analysis tools
<i>ReciPro</i>:免费开源多用途晶体学软件,集成了晶体模型数据库和查看器、衍射和显微镜模拟器以及衍射数据分析工具
- DOI:10.1107/s1600576722000139
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:6.1
- 作者:Seto Yusuke;Ohtsuka Masahiro
- 通讯作者:Ohtsuka Masahiro
HARECXS法によるBaTiO3中の各種ドーパントの占有サイト解析
HARECXS 法分析 BaTiO3 中各种掺杂剂的占据位置
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:大塚 真弘; 忽那 真也; 武藤 俊介
- 通讯作者:武藤 俊介
Quantitative Atomic-Site Analysis of Functional Dopants/Point Defects in Crystalline Materials by Electron-Channeling-Enhanced Microanalysis
通过电子通道增强微量分析对晶体材料中的功能掺杂剂/点缺陷进行定量原子位点分析
- DOI:10.3791/62015
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ohtsuka Masahiro;Muto Shunsuke
- 通讯作者:Muto Shunsuke
HARECXS法を用いたAl添加Y2Ti2O7におけるドーパントおよび酸素欠陥サイトの解析
使用 HARECXS 方法分析 Al 掺杂 Y2Ti2O7 中的掺杂剂和氧缺陷位点
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:大塚真弘; 田中誠; 北岡諭; 武藤俊介
- 通讯作者:武藤俊介
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Ohtsuka Masahiro其他文献
Unmixing hyperspectral data by using signal subspace sampling
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- DOI:
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- 影响因子:2.2
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Rusz Jan
Core-Shell Double Doping of Zn and Ca on β-Ga2O3 Photocatalysts for Remarkable Water Splitting
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2021 - 期刊:
- 影响因子:12.9
- 作者:
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- 影响因子:8.6
- 作者:
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Structural and chemical modifications of oxides and OH generation by space weathering: Electron microscopic/spectroscopic study of hydrogen-ion-irradiated Al2O3
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- 影响因子:5
- 作者:
Igami Yohei;Muto Shunsuke;Takigawa Aki;Ohtsuka Masahiro;Miyake Akira;Suzuki Kohtaku;Yasuda Keisuke;Tsuchiyama Akira - 通讯作者:
Tsuchiyama Akira
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- DOI:
10.1016/j.gca.2021.09.031 - 发表时间:
2021 - 期刊:
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Extension of dopant occupation site analysis by electron channeling X-ray spectroscopy and electron diffraction mapping
通过电子通道 X 射线光谱和电子衍射图扩展掺杂剂占据位置分析
- 批准号:
18K13991 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
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