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官能基の還元電位差を利用した選択的炭素ー炭素結合形成反応開発と新材料合成への展開
利用官能团还原电位差的选择性碳-碳键形成反应的开发及新材料合成的开发
基本信息
- 批准号：24K08425
- 负责人：
- 金额：$ 2.75万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2024
- 资助国家：日本
- 起止时间：2024-04-01 至 2027-03-31
- 项目状态：未结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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- 影响因子：0
- 作者：
前川 博史 - 通讯作者：
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前川 博史 - 通讯作者：
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