三次元フォトリソグラフィ

三维光刻

• 批准号: 20K05289
• 负责人: 笹子 勝
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Osaka Metropolitan University (2022)Osaka Prefecture University (2020-2021)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2020
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2020-04-01 至 2024-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20K05289/
• 关键词: フォトリソグラフィ; ３次元結像; 一括露光; ３次元リソグラフィ; 位相振幅; フォトマスク; ３次元構造; 3次元リソグラフィ; シードパターン; デザインルール; 最適化; 三次元; マスク; 複素振幅; フォトリソグラフィ; ３次元結像; 一括露光; ３次元リソグラフィ; 位相振幅; フォトマスク; ３次元構造; 3次元リソグラフィ; シードパターン; デザインルール; 最適化; 三次元; マスク; 複素振幅

３次元リソグラフィ用のマスの最適設計を行う計算機システムを開発し，これを応用したマスクの試作と，試作したマスクを用いて，３次元構造の露光実験に着手した．試行実験により，レジストの厚膜塗布の均一性，現像時のパターン倒れなどの課題を確認した．このうち，現像時のパターン倒れについては，表面張力を抑制する従来の超臨界現像方式を参考に，現像液の流動と抑制した専用の低表面張力現像機を作製した．，これにより，表面張力と流動によるパターン倒れなどの欠陥が抑制できた．これと並行して，露光実験を行い，これまでに３次元ピラミッドフレーム状構造，傾斜梁構造などの３次元構造の空間結像性について評価をおこなった．ビラミッドフレームについては，これまでの先行実験での結果を，別形状で検証できた．一方，傾斜梁構については，現像時のパターン倒れにより，一部の構造が形成できている状態に留まった．これらの実験結果より，一括露光による３次元空間での結像の確認と，表面張力によるパターン崩れなどの今後の課題が抽出と，解決策の一部が検証できた．

我们开发了一个计算机系统，该系统优化了三维光刻的质量设计，并开始使用应用于面具的口罩进行暴露于三维结构的实验。试验实验证实了诸如抗耐药薄膜的均匀性以及在发育过程中模式崩溃的问题。在其中，当模式在开发过程中下降时，我们使用了常规的超临界发展方法来抑制表面张力，并创建了一个专用的低表面张力开发人员，从而抑制了开发人员的流动。这阻止了缺陷，例如由于表面张力和流动而导致的图案崩溃。与此同时，已经进行了暴露实验，到目前为止，已经对三维结构的空间成像特性进行了评估，例如三维金字塔框架样结构和倾斜的光束结构。关于病毒酰胺框架，先前实验的结果以不同的形式验证。另一方面，关于倾斜的光束结构，某些结构保持在开发过程中模式下降的状态。这些实验结果表明，通过集体暴露证实了三维空间中的图像形成，并提取了由于表面张力而导致的图案塌陷，并验证了一些解决方案。