Control of valence band energy position of gallium oxides semiconductor for generating p-type conductivity

控制氧化镓半导体的价带能量位置以产生p型导电性

基本信息

  • 批准号:
    19K15456
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.66万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2022-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Growth of b-Ga2(O,S)3 alloy films on YSZ substrates by mist-CVD method
雾气CVD法在YSZ基体上生长b-Ga2(O,S)3合金薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    赤岩和明;廣江翼;長野望江;阿部友紀;加渡幹尚;市野邦男
  • 通讯作者:
    市野邦男
Growth of b-Ga2(O,S)3 alloy films on YSZ substrates by mist-CVD method
雾气CVD法在YSZ基体上生长b-Ga2(O,S)3合金薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    赤岩和明;廣江翼;長野望江;阿部友紀;加渡幹尚;市野邦男
  • 通讯作者:
    市野邦男
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