Studies on nitride-based spintronics materials with perpendicular magnetic anisotropy

氮化物基垂直磁各向异性自旋电子材料的研究

基本信息

批准号：
19K21954
负责人：
Suemasu Takashi
金额：
$ 4.16万
依托单位：
University of Tsukuba
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2019
资助国家：
日本
起止时间：
2019-06-28 至 2022-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（33）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Present Status of Rare-earth Free Ferrimagnet Mn4N and Future Prospects of Mn4N-based Compensated Ferrimagnets

无稀土亚铁磁体Mn4N的现状及Mn4N基补偿亚铁磁体的前景

DOI：
10.7566/jpsj.90.081010
发表时间：
2021
期刊：
Journal of the Physical Society of Japan
影响因子：
1.7
作者：
T. Suemasu;L. Vila;J. P. Attane
通讯作者：
J. P. Attane

Magnetic compensation of Mn4-xNixN confirmed by X-ray magnetic circular dichroism and analysis on its structure

X射线磁圆二色性证实Mn4-xNixN的磁补偿及其结构分析

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
T. Komori;T. Hirose;K. Amemiya;T. Suemasu
通讯作者：
T. Suemasu

Growth of Mn4-xCrxN epitaxial films and analysis of their magnetic structure by X-ray magnetic circular dichroism

Mn4-xCrxN外延薄膜的生长及其磁结构的X射线磁圆二色性分析

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Takumi Horiuchi;Taro Komori;Haruka Mitarai;Tomohiro Yasuda;Kenta Amemiya;Kaoru Toko and Takashi Suemasu
通讯作者：
Kaoru Toko and Takashi Suemasu

Analysis of the magneto-transport properties in Mn4-xNixN films with large current induced domain wall mobility and anomalous Hall effect

大电流诱导畴壁迁移率和反常霍尔效应的 Mn4-xNixN 薄膜的磁输运特性分析

DOI：
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
0
作者：
Taro Komori;Haruka Mitarai;Taku Hirose;Kaoru Toko and Takashi Suemasu
通讯作者：
Kaoru Toko and Takashi Suemasu

Growth of Mn4-xInxN epitaxial films and analysis of its structure by X-ray magnetic circular dichroism

Mn4-xInxN外延薄膜的生长及X射线磁圆二色性分析其结构

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
Tomohiro Yasuda;Taro Komori;Haruka Mitarai;Kenta Amemiya;Kaoru Toko and Takashi Suemasu
通讯作者：
Kaoru Toko and Takashi Suemasu

DOI：
{{ item.doi }}
发表时间：
{{ item.publish_year }}
期刊：
{{ item.journal_name }}
影响因子：
{{ item.factor }}
作者：
{{ item.authors }}
通讯作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}

作者：
{{ item.author }}

数据更新时间：{{ patent.updateTime }}

Suemasu Takashi其他文献

Impact of deposition pressure and two-step growth technique on the photoresponsivity enhancement of polycrystalline BaSi2 films formed by sputtering

沉积压力和两步生长技术对溅射多晶BaSi2薄膜光响应增强的影响

DOI：
10.7567/1882-0786/aafc70
发表时间：
2019
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Matsuno Satoshi;Nemoto Taira;Mesuda Masami;Kuramochi Hideto;Toko Kaoru;Suemasu Takashi
通讯作者：
Suemasu Takashi

Formation of NiO films by reactive sputtering and application to BaSi2 heterojunction solar cells as hole-selective interlayer material

反应溅射法形成NiO薄膜及其作为空穴选择性中间层材料在BaSi2异质结太阳能电池中的应用

DOI：
10.35848/1347-4065/aca770
发表时间：
2022
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
Takenaka Haruki;Hasebe Hayato;Kido Kazuki;Koitabashi Ryota;Mesuda Masami;Toko Kaoru;Suemasu Takashi
通讯作者：
Suemasu Takashi

水素ベース高圧プラズマを用いた金属の化学加工法の開発

氢基高压等离子体金属化学处理方法的开发

DOI：
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
0
作者：
Murata Hiromasa;Nozawa Koki;Saitoh Noriyuki;Yoshizawa Noriko;Suemasu Takashi;Toko Kaoru;安東卓洋，白數佳紀，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
通讯作者：
安東卓洋，白數佳紀，垣内弘章，安武潔，大参宏昌

Correlation of native defects between epitaxial films and polycrystalline BaSi2 bulks based on photoluminescence spectra

基于光致发光光谱的外延膜和多晶 BaSi2 块体之间的固有缺陷相关性

DOI：
10.7567/1882-0786/ab476f
发表时间：
2019
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Sato Takuma;Yamashita Yudai;Xu Zhihao;Toko Kaoru;Gambarelli Serge;Imai Motoharu;Suemasu Takashi
通讯作者：
Suemasu Takashi

Growth conditions for high-photoresponsivity randomly oriented polycrystalline BaSi2 films by radio-frequency sputtering: Comparison with BaSi2 epitaxial films

射频溅射高光响应随机取向多晶 BaSi2 薄膜的生长条件：与 BaSi2 外延薄膜的比较

DOI：
10.35848/1882-0786/ac4676
发表时间：
2022
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
Koitabashi Ryota;Kido Kazuki;Hasebe Hayato;Yamashita Yudai;Toko Kaoru;Mesuda Masami;Suemasu Takashi
通讯作者：
Suemasu Takashi