Study on Next Generation of High Precision Processing Using Ultrashort Pulse X-ray Laser

下一代超短脉冲X射线激光高精度加工研究

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Laser-induced damage thresholds and mechanism of silica glass induced by ultra-short soft x-ray laser pulse irradiation
超短软X射线激光脉冲辐照石英玻璃激光损伤阈值及机理
  • DOI：
    10.1364/ol.389288
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Optics Letters
  • 影响因子：
    3.6
  • 作者：
    Mikami Katsuhiro;Ishino Masahiko;Dinh Thanh-Hung;Motokoshi Shinji;Hasegawa Noboru;Kon Akira;Inubushi Yuichi;Owada Shigeki;Kinoshita Hiroo;Nishikino Masaharu
  • 通讯作者：
    Nishikino Masaharu
Self-organization of nano-structures induced by an intense pulse of femtosecond EUV laser
飞秒 EUV 激光强脉冲诱导纳米结构的自组织
  • DOI：
  • 发表时间：
    2021
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Thanh-Hung Dinh;Masahiko Ishino;Yoshiteru Yonetani;Toshiki Kitamura;Noboru Hasegawa;Masaharu Nishikino
  • 通讯作者：
    Masaharu Nishikino
Recent activities of ultra-high intensity laser-driven x-ray generation at KPSI Japan
日本 KPSI 近期开展的超高强度激光驱动 X 射线发生活动
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Thanhhung Dinh;Michiaki Mori;Noboru Hasegawa;Masaharu Nishikino;Kiminori Kondo;Tetsuya Kawachi
  • 通讯作者：
    Tetsuya Kawachi
Controlled strong excitation of silicon as a step towards processing materials at sub-nanometer precision
  • DOI：
    10.1038/s42005-019-0253-2
  • 发表时间：
    2019-11-28
  • 期刊：
    COMMUNICATIONS PHYSICS
  • 影响因子：
    5.5
  • 作者：
    Thanh-Hung Dinh;Medvedev, Nikita;Nishikino, Masaharu
  • 通讯作者：
    Nishikino, Masaharu
超短パルス軟Ｘ線レーザー特有の表面加工メカニズムを解明－ナノスケールの超精密・直接加工が可能に！－
阐明超短脉冲软X射线激光器特有的表面加工机制——纳米级超精密直接加工现在成为可能！
  • DOI：
  • 发表时间：
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
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