Development of conductive passivation layer using silicon nanocrystals

使用硅纳米晶体开发导电钝化层

基本信息

批准号：
20K15127
负责人：
Gotoh Kazuhiro
金额：
$ 2.66万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份：
2020
资助国家：
日本
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（28）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Scientists fabricate novel electrical component

科学家制造出新型电气元件

DOI：
发表时间：
期刊：
影响因子：
0
作者：
通讯作者：

Application of hydrogenated silicon nanocrystal/silicon oxide compound layer to crystalline silicon solar cells

氢化硅纳米晶/氧化硅复合层在晶体硅太阳能电池中的应用

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
Masashi Matsumi; Kazuhiro Gotoh; Satoru Miyamoto; Yasuyoshi Kurokawa; Noritaka Usami
通讯作者：
Noritaka Usami

シリコンナノ結晶/酸化シリコンを複合化した導電性パッシベーション膜の太陽電池応用

纳米硅晶/氧化硅复合材料导电钝化膜太阳能电池应用

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
津幡亮平; 後藤和泰; 黒川康良; 宇佐美徳隆
通讯作者：
宇佐美徳隆

Fabrication of silicon-nanocrystals-embedded silicon oxide passivating contacts

硅纳米晶体嵌入氧化硅钝化触点的制造

DOI：
10.1109/pvsc45281.2020.9300609
发表时间：
2020-06-14
期刊：
2020 47th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC)
影响因子：
0
作者：
Ryohei Tsubata;K. Gotoh;Y. Kurokawa;N. Usami
通讯作者：
N. Usami

Realization of the Cystalline Silicon Solar Cell Using Nanocrystalline Transport Path in Ultra-thin Dielectrics for Reinforced Passivating Contact

利用超薄电介质中的纳米晶传输路径实现增强钝化接触的晶体硅太阳能电池

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
R. Tsubata; K. Gotoh; T. Inoue; Y. Kurokawa;N. Usami
通讯作者：
N. Usami

DOI：
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作者：
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Gotoh Kazuhiro其他文献

Zn1-xGexOy passivating interlayers for BaSi2 thin-film solar cells

用于BaSi2薄膜太阳能电池的Zn1-xGexOy钝化中间层

DOI：
10.1021/acsami.1c23070
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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作者：
Yamashita Yudai;Takayanagi Kaori;Gotoh Kazuhiro;Toko Kaoru;Usami Noritaka;Suemasu Takashi
通讯作者：
Suemasu Takashi

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期刊：
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Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition

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10.1186/s11671-023-03821-9
发表时间：
2023-03-13
期刊：
影响因子：
0
作者：
Kumagai Fuga;Gotoh Kazuhiro;Miyamoto Satoru;Kato Shinya;Kutsukake Kentaro;Usami Noritaka;Kurokawa Yasuyoshi
通讯作者：
Kurokawa Yasuyoshi

Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition

氢等离子体处理对原子层沉积晶体硅TiOx钝化性能的影响

DOI：
10.1116/1.5134720
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
2.9
作者：
Miyagawa Shinsuke;Gotoh Kazuhiro;Ogura Shohei;Wilde Markus;Kurokawa Yasuyoshi;Fukutani Katsuyuki;Usami Noritaka
通讯作者：
Usami Noritaka