Development of oxyhalide-semiconductor-based solar cells by solution epitaxy
通过溶液外延开发卤氧化物半导体太阳能电池
基本信息
- 批准号:20K21232
- 负责人:
- 金额:$ 4.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份:2020
- 资助国家:日本
- 起止时间:2020-07-30 至 2022-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(1)
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会议论文数量(0)
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数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
Oka Daichi其他文献
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- 发表时间:
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Fukumura Tomoteru
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2019 - 期刊:
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- 作者:
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Fukumura Tomoteru
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10.1021/acs.cgd.1c00377 - 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
Fatima Zainab;Oka Daichi;Fukumura Tomoteru - 通讯作者:
Fukumura Tomoteru
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
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利用超高温外延技术建立界面涌现磁输运现象理论
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