Deposition and application of ultra-thin phase transition oxide thin films by high power pulsed magnetron sputtering

高功率脉冲磁控溅射超薄相变氧化物薄膜的沉积及应用

• 批准号: 20K14455
• 负责人: Mian Md. Suruz
• 金额: $ 2.66万
• 依托单位: Seikei University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
• 财政年份: 2020
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2020-04-01 至 2023-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20K14455/
• 关键词: 機能性酸化物薄膜; 二酸化バナジウム(VO2); 大電力パルススパッタ法; スマートウインドウ; 二酸化バナジウム (VO2); 極薄機能性酸化物薄膜; 酸化亜鉛; 大電力パルススパッタ; スマートウインド; 透過率の改善

项目成果

二酸化バナジウム薄膜の堆積に用いる酸化亜鉛バッファ層の低温成長

用于沉积二氧化钒薄膜的氧化锌缓冲层的低温生长

• 发表时间: 2022
• 作者: Bian Ligong;Cai Rong-Gen;Cao Shuo;Cao Zhoujian;Gao He;Guo Zong-Kuan;Lee Kejia;Li Di;Liu Jing;Lu Youjun;Pi Shi;Wang Jian-Min;Wang Shao-Jiang;Wang Yan;Yang Tao;Yang Xing-Yu;Yu Shenghua;Zhang Xin;モハメッド シュルズ ミヤ，中野武雄
• 通讯作者: モハメッド シュルズ ミヤ，中野武雄

反応性スパッタで作製した酸化タングステン薄膜におけるエレクトロクロミック特性の消色特性

反应溅射制备氧化钨薄膜电致变色性能的消色性能

• 发表时间: 2022
• 作者: 穂坂晃佑;モハメッド シュルズ ミヤ;中野武雄
• 通讯作者: 中野武雄

5%以下の着色時透過率を示すエレクトロクロミック酸化タングステン薄膜の作製

电致变色氧化钨薄膜的制备，着色时透射率低于 5%

• 发表时间: 2022
• 作者: モハメッド シュルズ ミヤ，穂坂晃佑;中野武雄
• 通讯作者: 中野武雄

反応性スパッタで作製した酸化タングステン薄膜のCV耐久性

反应溅射制备氧化钨薄膜的CV耐久性

• 发表时间: 2023
• 作者: Jeong Seunghyun;Yoon Joon Ho;Attri Pankaj;Kim In Tae;倉田翔次郎，穂坂晃佑，モハメッド シュルズ ミヤ，中野武雄
• 通讯作者: 倉田翔次郎，穂坂晃佑，モハメッド シュルズ ミヤ，中野武雄

Crystallinity Improvement of Zinc Oxide Films at Low Temperature Deposition Using Reactive HiPIMS

使用反应性 HiPIMS 低温沉积改善氧化锌薄膜的结晶度

• 发表时间: 2022
• 作者: Md. Suruz Mian;Miho Hagino;Rie Kawahigashi;Takeo Nakano;Kunio Okimura
• 通讯作者: Kunio Okimura