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中島 隆介: "赤外エバネッセント光によるシリコンウエハ加工表面層欠陥検出に関する研究(第1報)-理論的・実験的検討-"精密工学会誌. 69・9. 1291-1295 (2003)

Ryusuke Nakajima:“利用红外倏逝光检测硅晶片加工表面层缺陷的研究(第1次报告)-理论和实验研究-”日本精密工程学会杂志69・9(2003年)。

基本信息

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文献摘要

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关联基金

赤外エバネッセント光による高機能半導体薄膜欠陥のナノインプロセス計測に関する研究
批准号:
03J04262
批准年份:
2003
资助金额:
1.73
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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