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Low-stress diamond-like carbon films containing carbon nanoparticles fabricated by combining rf sputtering and plasma chemical vapor deposition

射频溅射与等离子体化学气相沉积相结合制备含有碳纳米粒子的低应力类金刚石碳薄膜

基本信息

DOI:
10.35848/1347-4065/abbb20
发表时间:
2020
影响因子:
1.5
通讯作者:
Shiratani Masaharu
中科院分区:
物理与天体物理4区
文献类型:
--
作者: Hwang Sung-Hwa;Okumura Takamasa;Kamataki Kunihiro;Itagaki Naho;Koga Kazunori;Nakatani Tatsuyuki;Shiratani Masaharu研究方向: -- MeSH主题词: --
关键词: --
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文献摘要

参考文献(32)
被引文献(3)
Nano-factories in plasma: present status and outlook
等离子体纳米工厂:现状与展望
DOI:
10.1088/0022-3727/44/17/174038
发表时间:
2011
期刊:
Journal of Physics D: Applied Physics
影响因子:
0
作者:
M. Shiratani;K. Koga;S. Iwashita;G. Uchida;N. Itagaki;K. Kamataki
通讯作者:
K. Kamataki
In situ observation of nucleation and subsequent growth of clusters in silane radio frequency discharges
原位观察硅烷射频放电中团簇的成核和随后的生长
DOI:
10.1063/1.126922
发表时间:
2000
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
K. Koga;Yasuhiro Matsuoka;Kenichi Tanaka;M. Shiratani;Yukio Watanabe
通讯作者:
Yukio Watanabe
Diamond-Like Carbon Films, Properties and Applications
类金刚石碳膜、特性和应用
DOI:
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
0
作者:
J. Robertson
通讯作者:
J. Robertson
Ion induced stress relaxation in dense sputter-deposited DLC thin films
致密溅射沉积 DLC 薄膜中的离子诱导应力松弛
DOI:
10.1063/1.4997324
发表时间:
2017
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
Asim Aijaz;T. Kubart
通讯作者:
T. Kubart
High rate deposition of highly stable a-Si:H films using multi-hollow discharges for thin films solar cells
使用薄膜太阳能电池的多空心放电高速率沉积高度稳定的a-Si:H薄膜
DOI:
10.1016/j.surfcoat.2010.07.081
发表时间:
2010
期刊:
Surface & Coatings Technology
影响因子:
5.4
作者:
W. M. Nakamura;Hidefumi Matsuzaki;H. Sato;Y. Kawashima;K. Koga;M. Shiratani
通讯作者:
M. Shiratani

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Shiratani Masaharu
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