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Double-plasmon broadband response of engineered titanium silicon oxynitride

工程化钛硅氮氧化物的双等离子体宽带响应

基本信息

DOI：
10.1364/ome.9.000878
发表时间：
2019
期刊：
Optical Materials Express
影响因子：
2.8
通讯作者：
Dal Negro, L.
中科院分区：
材料科学3区
文献类型：
--
作者： Britton, W. A.;Chen, Y.;Dal Negro, L.研究方向： -- MeSH主题词： --
关键词： --
来源链接：pubmed详情页地址

文献摘要

参考文献（23）
被引文献（11）
AR AND EXCESS N INCORPORATION IN EPITAXIAL TIN FILMS GROWN BY REACTIVE BIAS SPUTTERING IN MIXED AR/N-2 AND PURE N-2 DISCHARGES
DOI：
10.1116/1.576251
发表时间：
1989-05-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
0
作者：
HULTMAN, L;SUNDGREN, JE;GREENE, JE
通讯作者：
GREENE, JE
Titanium oxynitride thin films sputter deposited by the reactive gas pulsing process
DOI：
10.1016/j.apsusc.2006.12.004
发表时间：
2007-04-15
期刊：
APPLIED SURFACE SCIENCE
影响因子：
6.7
作者：
Chappe, Jean-Marie;Martin, Nicolas;Takadoum, Jamal
通讯作者：
Takadoum, Jamal
On the phase formation of titanium oxide thin films deposited by reactive DC magnetron sputtering: influence of oxygen partial pressure and nitrogen doping
反应直流磁控溅射沉积氧化钛薄膜的相形成：氧分压和氮掺杂的影响
DOI：
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
0
作者：
R. Pandian;G. Natarajan;S. Rajagopalan;M. Kamruddin;A. Tyagi
通讯作者：
A. Tyagi

数据更新时间：{{ references.updateTime }}

关联基金

Tunable Si-compatible Nonlinear Materials for Active Metaphotonics
批准号：
1709704
批准年份：
2017
资助金额：
34.91
项目类别：
Standard Grant
Dal Negro, L.
通讯地址:
--
所属机构:
--
电子邮件地址：
--
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