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T.Ichiki,S.Amagi,T.Yoshida: "Initial stage of cubic boron nitride film growth from vapor phase" Journal of Applied Physics,Vol79,No7 April 1996,. 79(in press). (1996)

T.Ichiki、S.Amagi、T.Yoshida:“气相立方氮化硼薄膜生长的初始阶段”应用物理杂志,第 79 卷,第 7 期,1996 年 4 月,。

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誘導結合式・高密度プラズマ堆積プロセスにおけるフリーラジカルの役割と組織制御
批准号:
07217205
批准年份:
1995
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Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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