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Laser-focused Cr atomic deposition pitch standard as a reference standard

激光聚焦铬原子沉积间距标准作为参考标准

基本信息

DOI:
10.1016/j.sna.2014.11.006
发表时间:
2015-02-01
影响因子:
4.6
通讯作者:
Li, Tongbao
中科院分区:
工程技术3区
文献类型:
Article
作者: Lei, Lihua;Li, Yuan;Li, Tongbao研究方向: -- MeSH主题词: --
关键词: --
来源链接:pubmed详情页地址

文献摘要

A chromium (Cr) grating pitch standard is fabricated by a technique of laser-focused atomic deposition. Cosine errors of the grating standard are analyzed and controlled under a relative error of 6 x 10(-6) after 10-times iterative calibration. The dimension properties of the standard are measured and analyzed by a calibrated metrological atom force microscope (AFM) with large range. The experimental results show the grating standard has a good uniformity and structural periodicity. Hence, the laser-focused Cr atomic deposition grating can work as a reference standard. (C) 2014 Elsevier B.V. All rights reserved.
采用激光聚焦原子沉积技术制备了一种铬(Cr)光栅节距标准器。经过10次迭代校准后,对光栅标准器的余弦误差进行了分析,并将其控制在6×10⁻⁶的相对误差范围内。利用经过校准的大量程计量型原子力显微镜(AFM)对该标准器的尺寸特性进行了测量和分析。实验结果表明,该光栅标准器具有良好的均匀性和结构周期性。因此,激光聚焦铬原子沉积光栅可作为一种参考标准。版权所有©2014爱思唯尔出版集团。保留所有权利。
参考文献(33)
被引文献(0)

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关联基金

薄膜界面特性对多层膜纳米光栅线宽粗糙度的影响
批准号:
51475335
批准年份:
2014
资助金额:
86.0
项目类别:
面上项目
Li, Tongbao
通讯地址:
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所属机构:
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电子邮件地址:
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