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Room Temperature Photoluminescence of Lanthanoid Implanted GaN after Ultra High Pressure Annealing

超高压退火后镧系元素注入 GaN 的室温光致发光

基本信息

DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Naoto Hagura
中科院分区:
文献类型:
--
作者: Shin Ito;Shin-ichiro Sato;Michal Bockowski; Manato Deki; Naoto Hagura研究方向: -- MeSH主题词: --
关键词: --
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文献摘要

参考文献(20)
被引文献(0)
Positron annihilation and cathodoluminescence study on inductively coupled plasma etched GaN
电感耦合等离子体刻蚀GaN的正电子湮没和阴极发光研究
DOI:
10.1002/pssb.201451498
发表时间:
2015
期刊:
physica status solidi (b)
影响因子:
0
作者:
K. Kataoka;M. Kanechika;T. Narita;Y. Kimoto;A. Uedono
通讯作者:
A. Uedono
Systematic variation of photoluminescence spectra with donor and acceptor concentrations ranging from 1 × 1010 to 1 × 1020 cm−3 in Si
Si 中供体和受体浓度范围为 1 × 1010 至 1 × 1020 cm−3 时光致发光光谱的系统变化
DOI:
10.35848/1347-4065/ac7491
发表时间:
2022
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
M. Tajima;H. Toyota;A. Ogura
通讯作者:
A. Ogura
Photoluminescence determination of the nitrogen doping concentration in 6H‐SiC
光致发光测定6H-SiC中氮掺杂浓度
DOI:
10.1063/1.112706
发表时间:
1994
期刊:
影响因子:
0
作者:
A. Henry;O. Kordina;C. Hallin;C. Hemmingsson;E. Janzén
通讯作者:
E. Janzén
Calibration of the photoluminescence technique for measuring concentrations of shallow dopants in Ge
用于测量Ge中浅掺杂剂浓度的光致发光技术的校准
DOI:
10.1063/1.4766385
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
0
作者:
M. Allardt;V. Kolkovsky;K. Irmscher;J. Weber
通讯作者:
J. Weber
The influence of impurity concentration on exciton photoluminescence in GaAs and InP
杂质浓度对GaAs和InP激子光致发光的影响
DOI:
10.1088/0268-1242/7/11/020
发表时间:
1992
期刊:
影响因子:
0
作者:
H. Pen;F. Dreissen;S. Olsthoorn;L. Giling
通讯作者:
L. Giling

数据更新时间:{{ references.updateTime }}

关联基金

Nanoscale deterministic single ion implantation for semiconductor qubit formation
批准号:
22H03880
批准年份:
2022
资助金额:
11.15
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Naoto Hagura
通讯地址:
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所属机构:
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电子邮件地址:
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