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Effects of doping and rapid thermal processing in Y doped CdO thin films

Y 掺杂 CdO 薄膜中掺杂和快速热处理的影响

基本信息

DOI：
10.1016/j.jallcom.2018.10.288
发表时间：
2019-03
期刊：
Journal of Alloys and Compounds
影响因子：
6.2
通讯作者：
Guanzhong Wang
中科院分区：
材料科学2区
文献类型：
--
作者： Menting Xie;Wei Zhu;Kin Man Yu;Zishu Zhu;Guanzhong Wang研究方向： -- MeSH主题词： --
关键词： --
来源链接：pubmed详情页地址

文献摘要

参考文献（49）
被引文献（12）
XPS study of the interface reactions between buffer layers for HTSC thin films and silicon
DOI：
10.1002/sia.740180909
发表时间：
1992-09
期刊：
Surface and Interface Analysis
影响因子：
1.7
作者：
H. Behner;J. Wecker;T. Matthée;K. Samwer
通讯作者：
H. Behner;J. Wecker;T. Matthée;K. Samwer
Highly conducting and transparent Ti-doped CdO films by pulsed laser deposition
DOI：
10.1016/j.apsusc.2009.01.091
发表时间：
2009-04
期刊：
Applied Surface Science
影响因子：
6.7
作者：
R. Gupta;K. Ghosh;R. Patel;P. Kahol
通讯作者：
R. Gupta;K. Ghosh;R. Patel;P. Kahol
Current underestimation of the optical gap and Burstein-Moss shift in CdO thin films: A consequence of extended misuse of α2-versus-hν plots
DOI：
10.1063/1.3651338
发表时间：
2011-10
期刊：
Applied Physics Letters
影响因子：
4
作者：
A. Segura;J. Sánchez-Royo;B. García-Domene;G. Almonacid
通讯作者：
A. Segura;J. Sánchez-Royo;B. García-Domene;G. Almonacid
Electrical, optical and structural properties of aluminum doped cadmium oxide thin films prepared by spray pyrolysis technique
DOI：
10.1016/j.matchemphys.2010.03.022
发表时间：
2010-08
期刊：
Materials Chemistry and Physics
影响因子：
4.6
作者：
R. Kumaravel;S. Menaka;S. Snega;K. Ramamurthi;K. Jeganathan
通讯作者：
R. Kumaravel;S. Menaka;S. Snega;K. Ramamurthi;K. Jeganathan
Sources of Conductivity and Doping Limits in CdO from Hybrid Density Functional Theory
DOI：
10.1021/ja204639y
发表时间：
2011-09-28
期刊：
JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY
影响因子：
15
作者：
Burbano, Mario;Scanlon, David O.;Watson, Graeme W.
通讯作者：
Watson, Graeme W.

数据更新时间：{{ references.updateTime }}

关联基金

基于CdO的透明导电氧化物薄膜的研究和应用
批准号：
51602302
批准年份：
2016
资助金额：
21.0
项目类别：
青年科学基金项目
Guanzhong Wang
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