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An 80-MHz 0.4V ULV SRAM macro in 28nm FDSOI achieving 28-fJ/bit access energy with a ULP bitcell and on-chip adaptive back bias generation

采用 28nm FDSOI 的 80MHz 0.4V ULV SRAM 宏,通过 ULP 位单元和片上自适应反向偏置生成实现 28fJ/位访问能量

基本信息

DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
European Solid-State Circuits Conference
影响因子:
--
通讯作者:
D. Bol
中科院分区:
文献类型:
--
作者: Thomas Haine;Quoc;François Stas;Ludovic Moreau;D. Flandre;D. Bol研究方向: -- MeSH主题词: --
关键词: --
来源链接:pubmed详情页地址

文献摘要

In this paper, we propose an ultra-low-voltage (ULV) SRAM in 28nm FDSOI based on a 7-T ULP bitcell that allows using only low Vt (LVT) transistors for density and speed without prohibitive leakage. The retention is based on two CMOS negative-differential resistance (NDR) structures. Thanks to importance sampling (IS) methodology, the proposed bitcell has been sized to reach low failure rate for 8-kB macro. Process voltage temperature (PVT) compensation is performed on-chip by an adaptive back biasing (ABB) generator. At 0.4V, the proposed SRAM can operate at 80 MHz and reaches access energy of 28 fJ/bit including the ABB generator in closed-loop operation.
在本文中,我们提出了一种基于28nm全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)工艺的超低电压(ULV)静态随机存取存储器(SRAM),它采用7 - T超低功耗(ULP)位单元,能够仅使用低阈值电压(LVT)晶体管来实现密度和速度要求,且不会产生过高的泄漏电流。其数据保持功能基于两种互补金属氧化物半导体(CMOS)负微分电阻(NDR)结构。借助重要性抽样(IS)方法,所提出的位单元经过尺寸优化,使8KB的存储模块达到较低的故障率。通过自适应背偏置(ABB)发生器在芯片上进行工艺、电压和温度(PVT)补偿。在0.4V电压下,所提出的SRAM能够在80MHz频率下工作,在闭环操作中包括ABB发生器在内的访问能量达到28飞焦/位。
参考文献(1)
被引文献(9)
A 65 nm 32 b Subthreshold Processor With 9T Multi-Vt SRAM and Adaptive Supply Voltage Control
DOI:
10.1109/jssc.2012.2220671
发表时间:
2013
期刊:
IEEE Journal of Solid-State Circuits
影响因子:
5.4
作者:
Sven Lütkemeier;T. Jungeblut;Hans Kristian Otnes Berge;S. Aunet;Mario Porrmann;U. Rückert
通讯作者:
Sven Lütkemeier;T. Jungeblut;Hans Kristian Otnes Berge;S. Aunet;Mario Porrmann;U. Rückert

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D. Bol
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