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A comparative Raman spectroscopy study on silicon surface in HF, HF/H2O2 and HF/NH4F aqueous solutions

HF、HF/H2O2 和 HF/NH4F 水溶液中硅表面拉曼光谱对比研究

基本信息

DOI:
10.1016/s0921-5107(99)00512-7
发表时间:
2000
影响因子:
3.6
通讯作者:
Chun Zhang
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者: Jing Wang;H. Tu;Wuxin Zhu;Qigang Zhou;Ansheng Liu;Chun Zhang研究方向: -- MeSH主题词: --
关键词: --
来源链接:pubmed详情页地址

文献摘要

参考文献(3)
被引文献(8)
Extending surface Raman spectroscopy to transition metal surfaces for practical applications .1. Vibrational properties of thiocyanate and carbon monoxide adsorbed on electrochemically activated platinum surfaces
DOI:
10.1021/jp962049q
发表时间:
1997-02-20
期刊:
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B
影响因子:
3.3
作者:
Tian, ZQ;Ren, B;Mao, BW
通讯作者:
Mao, BW
IDEAL HYDROGEN TERMINATION OF THE SI-(111) SURFACE
DOI:
10.1063/1.102728
发表时间:
1990-02-12
期刊:
APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子:
4
作者:
HIGASHI, GS;CHABAL, YJ;RAGHAVACHARI, K
通讯作者:
RAGHAVACHARI, K
INFRARED-SPECTROSCOPY OF SI(111) AND SI(100) SURFACES AFTER HF TREATMENT - HYDROGEN TERMINATION AND SURFACE-MORPHOLOGY
DOI:
10.1116/1.575980
发表时间:
1989-05-01
期刊:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子:
0
作者:
CHABAL, YJ;HIGASHI, GS;BURROWS, VA
通讯作者:
BURROWS, VA

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Chun Zhang
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