高性能AlGaN/GaN复合阳极场控功率整流器新结构及模型
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:60906037
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:24.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0404.半导体电子器件与集成
- 结题年份:2012
- 批准年份:2009
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2010-01-01 至2012-12-31
- 项目参与者:张波; 范杰; 汪志刚; 杨帆; 刘新新; 陈波;
- 关键词:
项目摘要
氮化镓(GaN)电子器件是国际半导体领域研究热点和战略制高点之一。本申请提出一种具有复合阳极的AlGaN/GaN场控功率整流器新结构并建立其电流-电压模型。该结构通过肖特基-欧姆接触构成复合阳极实现对器件开启与截止的电场控制,这是一种新的器件工作机理。该结构不仅具有高压、高速、低功耗等优点,还与AlGaN/GaN HEMT功率开关器件工艺兼容,特别适合功率半导体向集成化、智能化、小型化发展的需要。同时,本申请采用等效电阻网络方法,对所提出的GaN功率整流器新结构建立含有温度、偏置电压以及器件结构等参数的电流-电压模型,该模型的建立具有普适性,可应用于其它功率器件研究中。本申请是一项具有国际先进水平的基础性开拓研究,具有重大的科学意义和应用价值,在经济和军事领域具有广阔和特殊的应用前景。
结项摘要
本课题严格按照《申请书》研究内容和经费预算执行,圆满完成全部研究计划,达到了预期目标。在本基金资助下,紧密围绕“高性能AlGaN/GaN复合阳极场控功率整流器新结构及模型”研究,提出了一种具有复合阳极的AlGaN/GaN 场控功率整流器新结构并建立了电流-电压模型,研究了器件特性与器件结构、偏置电压、温度等的关系,阐述了不同情况下的器件击穿机理;在本基金资助下,本课题还对GaN HEMT器件进行了拓展研究。在本领域发表学术论文8篇,其中被SCI检索4篇,EI检7篇;申请中国发明专利4项;作学术报告5次,其中特邀报告2次。主要研究成果概述如下:. 1)提出了一种具有复合阳极的AlGaN/GaN场控功率整流器(L-FER)新结构;分析了器件耐压与器件结构和温度的关系,阐述了不同情况下的器件击穿机理。本课题所提出的新结构具有普适性,可应用于其它功率器件研究中;同时也具有极好的工艺兼容性和可控性,非常适合硅基GaN功率半导体器件及集成技术的需要。相关研究结果发表在IEEE ICSICT-2010国际会议和国外SCI期刊Semi. Scie. and Tech.-2013上。. 2)基于电阻分析方法,建立了L-FER器件的电流-电压模型,研究了各部分电阻与温度变化的关系,为器件优化设计提供了理论依据。相关研究结果发表在IEEE Tran. Elect. Devi.-2010上。. 3)提出了一种具有混合栅电极的增强型AlGaN/GaN HEMT功率器件,在保证相同耐压下,其比导通电阻较常规结构62%,相关研究结果发表在国外SCI期刊IET Elect. Lett.-2010上。提出了具有凹槽势垒漏极(RBD)的AlGaN/GaN MISFET器件,该器件在在反向偏置时具有自保护功能,而且具有低正向导通电阻特性,相关研究结果发表在SCI期刊China Physics B-2012上。. 4)提出利用能带调制技术抑制AlGaN/GaN HEMT器件栅极泄露电流,建立了势垒层中导带的能量解析模型,从而为能带调制技术奠定了理论支持。结果表明,能带调制技术能够有效的降低栅极正向泄露电流。相关研究结果发表在Solid-State Electr.-2013和Journal of Semico.-2013 上。
项目成果
期刊论文数量(8)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(2)
专利数量(4)
氮化镓(GaN)功率集成技术
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:中国科技论文在线
- 影响因子:--
- 作者:陈万军
- 通讯作者:陈万军
Fluorine-Plasma Surface Treatment for Gate Forward Leakage Reduction in AlGaN/GaN HEMTs
用于减少 AlGaN/GaN HEMT 中栅极正向泄漏的氟等离子体表面处理
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Journal of Semiconductor
- 影响因子:--
- 作者:陈万军
- 通讯作者:陈万军
High-current-density high-voltage normally-off AlGaN/GaN hybrid-gate HEMT with low on-resistance
低导通电阻高电流密度高电压常断 AlGaN/GaN 混合栅 HEMT
- DOI:10.1049/el.2010.1950
- 发表时间:2010-11
- 期刊:iet electronics letters
- 影响因子:--
- 作者:陈万军
- 通讯作者:陈万军
Analysis and reduction of the gate forward leakage current in AlGaN/GaN HEMTs employing energy-band modulation technology
采用能带调制技术的 AlGaN/GaN HEMT 栅极正向漏电流的分析和降低
- DOI:10.1016/j.sse.2012.10.014
- 发表时间:2013-02
- 期刊:Solid-State Electronics
- 影响因子:1.7
- 作者:Chen, Wanjun1;Zhang, Jing1;Zhang, Bo1;Li, Zhaoji1
- 通讯作者:Li, Zhaoji1
基于能带调制模型的高压增强型AlGaN/GaN HFET器件
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:固体电子学研究与进展
- 影响因子:--
- 作者:张竞;陈万军;汪志刚;魏进;张波;ZHANG Jing CHEN Wanjun WANG Zhigang WEI Jin ZHANG
- 通讯作者:ZHANG Jing CHEN Wanjun WANG Zhigang WEI Jin ZHANG
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其他文献
基于GaN器件Buck电路死区功耗分析与优化
- DOI:--
- 发表时间:2016
- 期刊:电源学报
- 影响因子:--
- 作者:陈万军;施宜军;周琦;张波
- 通讯作者:张波
IGBT单粒子烧毁效应的二维仿真
- DOI:--
- 发表时间:2015
- 期刊:电子与封装
- 影响因子:--
- 作者:王珣阳;潘建华;陈万军
- 通讯作者:陈万军
其他文献
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