光学非球面的磁流体超精密抛光工艺研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:50175062
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:19.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0509.加工制造
- 结题年份:2004
- 批准年份:2001
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2002-01-01 至2004-12-31
- 项目参与者:赵广木; 张云; 吴鸿钟; 郭震宇; 辛科;
- 关键词:
项目摘要
计算机控制磁流体抛光技术既有很好的工业应用前景,又有很高的学术研究意义。本项目深入研究进行高精度光学零件高效加工的磁流体抛光工艺基础性理论、规律和方法,并研究磁流体抛光专用实验设备。该项目的成功,对促进我国光学制造技术的发展具有里程碑的意义。
结项摘要
项目成果
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