氧化物半导体量子点稀土共掺杂硅基发光材料及其共振能量转移过程研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:50872051
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:35.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:E0207.无机非金属半导体与信息功能材料
- 结题年份:2011
- 批准年份:2008
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2009-01-01 至2011-12-31
- 项目参与者:徐骏; 李卫; 李伟; 万能; 戴明; 甘新慧;
- 关键词:
项目摘要
深入研究硅基发光材料中的光电子过程,进一步提高硅基发光材料的发光效率是当前国际上的研究热点与前沿课题,也是实现硅基微光子集成的关键所在,因而对硅基发光材料的研究具有重要的科学意义与应用前景,其中稀土离子掺杂的硅基薄膜是人们极为关注的材料之一。本项目提出利用氧化物半导体量子点和稀土离子共掺杂技术,在系统研究氧化物半导体量子点稀土共掺杂硅基材料的光物理过程的基础上,通过共掺杂氧化物半导体量子点作为敏化源,激活稀土离子,利用两者之间有效的共振能量转移过程,使得材料的发光效率得到明显地提高;在此基础上设计和制备二维和三维图形化的硅基光学结构,将其与氧化物半导体量子点稀土共掺杂材料有机地结合起来,构建新的硅基发光器件结构,进一步降低荧光损失,提高硅基发光材料的光发射提取效率,为未来硅基微光子学打下基础。
结项摘要
项目成果
期刊论文数量(17)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(6)
专利数量(4)
Fabrication and phase transition of long-range-ordered, high-density GST nanoparticle arrays
长程有序、高密度 GST 纳米颗粒阵列的制备和相变
- DOI:10.1088/0957-4484/19/50/505304
- 发表时间:2008-12
- 期刊:Nanotechnology
- 影响因子:3.5
- 作者:Chao Song;Xinhui Gan;Ling Xu;Kunji Chen;Zhongyuan Ma;Ming Dai;Jun Xu;Liangcai Wu;Dong Liu;Yuanbao Liao
- 通讯作者:Yuanbao Liao
纳米晶体的制备、结构与发光性质
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:Acta Phys. Sin., (物理学报)
- 影响因子:--
- 作者:韩敏;徐骏;陈坤基;林涛;万能
- 通讯作者:万能
Morphology control and electron field emission properties of high-ordered Si nanoarrays fabricated by modified nanosphere lithography
改进纳米球光刻法制备的高有序硅纳米阵列的形貌控制和电子场发射特性
- DOI:10.1016/j.apsusc.2008.07.162
- 发表时间:2009-03
- 期刊:Applied Surface Science
- 影响因子:6.7
- 作者:Zhou, Jiang;Zhang, Xian-Gao;Chen, Kunji;Ma, Zhongyuan;Xu, Jun;Li, Wei;Xu, Ling;Wu, Liangcai
- 通讯作者:Wu, Liangcai
CdTe纳米晶及层状纳米晶薄膜的生长及其光荧光性质
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:物理学报
- 影响因子:--
- 作者:甘新慧;戴明;廖远宝;徐骏;刘东;徐岭;马忠元;陈坤基
- 通讯作者:陈坤基
硫系相变材料Ge_1Sb_2Te_4和Ge_2Sb_2Te_5薄膜相变速度及电学输运性质研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:固体电子学研究与进展
- 影响因子:--
- 作者:徐岭;陈坤基;杨菲;廖远宝;刘妮;马忠元;仝亮;徐骏;刘文强;刘东
- 通讯作者:刘东
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其他文献
室温下Ⅱ-Ⅵ族纳米晶粒在Si衬底上的化学自组装
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:红外与毫米波学报
- 影响因子:--
- 作者:甘新慧;李卫;马懿;徐岭;马忠元;徐骏;陈坤基;戴明;赵伟明;孙萍;吴良才
- 通讯作者:吴良才
铜纳米颗粒吸收光谱特性研究
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:南通大学学报(自然科学版)
- 影响因子:--
- 作者:吴卫国;徐岭;周惠君;朱振邦;赵亮
- 通讯作者:赵亮
带隙可调的 CdS 纳米晶薄膜的可控化学浴制备和光学性质
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:发光学报
- 影响因子:--
- 作者:甘新慧;徐岭;戴明;张宇;李卫;刘东;廖远宝
- 通讯作者:廖远宝
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- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:物理学报
- 影响因子:--
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- 通讯作者:王旦清
基于直接胶体晶体刻蚀技术的高度
- DOI:--
- 发表时间:--
- 期刊:物理学报 56 4242-4246(2007)
- 影响因子:--
- 作者:李卫;徐岭;孙萍;赵伟明;黄信
- 通讯作者:黄信
其他文献
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