硅基微波超宽带低噪声放大器多级噪声及平坦性优化技术研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:61306033
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:25.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0402.集成电路设计
- 结题年份:2016
- 批准年份:2013
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2014-01-01 至2016-12-31
- 项目参与者:靳刚; 刘伟峰; 阴玥; 井凯; 张岩龙; 赵忠方; 张翔; 李国华;
- 关键词:
项目摘要
In view of the broad application prospects of microwave ultra wideband low noise amplifier technology in future cognitive radio, radar imaging and high-speed wireless communication system, how to achieve an amplifier with good low noise and wide band performance based on silicon technology becomes a research hotspot at present. This topic is intended for the characteristic frequency band of signal frequency S-K band, center frequency X-band, and relative bandwidth 200%, study the noise model to eliminate the noise source correlation, analyze the SiGe Hicum device parameters and noise model, extract the key parameters affect device noise within ultra-wideband. Analyze the relationship of power matching and noise matching, research the effect of device parameters on the matching network noise, propose an ultra wideband matching structure and noise optimization method. Analyze the relationship between the circuit noise and frequency, and research the optimization method of circuit noise and its flatness in ultra wideband. Finally, based on the above research results, propose a method of multi-level noise analysis and optimization of microwave ultra-wideband low-noise amplifier, establish the evaluation factors of ultra-wideband low noise amplifier include noise, bandwidth and flatness performance parameter. Research is needed to solve the key issues of the ultra-wideband low noise amplifier, and the research results will effectively support the research and design of high-performance silicon microwave ultra wideband low noise amplifier.
鉴于微波超宽带低噪声放大技术在未来认知无线电、雷达成像和高速无线通信等系统的广阔应用前景,如何基于硅工艺在超宽频带内实现良好噪声性能的超宽带低噪声放大器成为目前的研究热点。本课题拟针对信号频率S-K波段,中心频率X波段,相对带宽200%的特征频段,研究消除噪声源相关性的噪声分析方法,分析SiGe Hicum器件参数及噪声模型,提取影响器件超宽频带内噪声的关键参数;分析功率匹配和噪声匹配的关系,研究器件参数对匹配网络噪声的影响,提出超宽带匹配结构及噪声优化方法;分析电路噪声与频率的关系,研究电路噪声优化方法和超宽带内噪声平坦技术;最后,基于上述研究成果,形成微波超宽频带低噪声放大器的多级噪声分析及优化方法,建立包含噪声、带宽和平坦性等指标的超宽带低噪声放大器的最优化因子。研究内容属于超宽带低噪声放大器研制中亟需解决的关键问题,研究成果将有效支撑高性能硅基微波超宽带低噪声放大器的研究与设计
结项摘要
鉴于微波超宽带低噪声放大技术在未来认知无线电、雷达成像和高速无线通信等系统的广阔应用前景,如何基于硅工艺在超宽频带内实现良好噪声性能的超宽带低噪声放大器成为目前的研究热点。本课题针对中心频率X波段,相对带宽200%的特征频段,研究消除噪声源相关性的噪声分析方法,分析SiGe Hicum器件参数及噪声模型,提取影响器件超宽频带内噪声的关键参数;分析功率匹配和噪声匹配的关系,研究器件参数对匹配网络噪声的影响,提出超宽带匹配结构及噪声优化方法;分析电路噪声与频率的关系,研究电路噪声优化方法和超宽带内噪声平坦技术;在国内外重要刊物发表SCI论文6篇和EI论文4篇,申请/授权国家发明专利11项,申请集成电路布图保护2项。最后,基于上述研究成果,形成微波超宽频带低噪声放大器的多级噪声分析及优化方法,开展了高性能硅基微波超宽带低噪声放大器的研究与设计,投片测试结果:信号频率4-20GHz,噪声系数≤3.5dB,功率增益≥15dB,功耗≤60mW,表明本项目相关研究取得了良好的效果。
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
A SiGe LC-ladder low noise amplifier with base resistance match, gain and noise flatness for UWB applications
适合 UWB 应用的 SiGe LC 梯形低噪声放大器,具有基极电阻匹配、增益和噪声平坦度
- DOI:10.1016/j.mejo.2014.03.020
- 发表时间:2014-06
- 期刊:Microelectronics Journal
- 影响因子:2.2
- 作者:K. Jing;Y. Q. Zhuang;Z. R. Li
- 通讯作者:Z. R. Li
A broadband 5-bit CMOS step attenuator in small area with low insertion loss
一种小面积、低插入损耗的宽带5位CMOS步进衰减器
- DOI:10.1587/elex.11.20140216
- 发表时间:2014
- 期刊:Electronics Express
- 影响因子:--
- 作者:Zhang Yanlong;Zhuang Yiqi;Li Zhenrong
- 通讯作者:Li Zhenrong
A CMOS semi-distributed step attenuator with low insertion loss and low phase distortion
一种低插入损耗、低相位失真的CMOS半分布式步进衰减器
- DOI:10.1587/elex.11.20140394
- 发表时间:2014-05
- 期刊:Electronics Express
- 影响因子:--
- 作者:Zhang Yanlong;Zhuang Yiqi;Li Zhenrong
- 通讯作者:Li Zhenrong
利用Volterra级数的低噪声放大器线性增强设计
- DOI:--
- 发表时间:2014
- 期刊:四川大学学报(工程科学版)
- 影响因子:--
- 作者:井凯;庄奕琪;李振荣
- 通讯作者:李振荣
A SiGe HBT low noise amplifier using on-chip notch filter for K band wireless communication
一种使用片上陷波滤波器的 SiGe HBT 低噪声放大器,用于 K 波段无线通信
- DOI:10.1016/j.mejo.2014.04.002
- 发表时间:2014-06
- 期刊:Microelectronics Journal
- 影响因子:2.2
- 作者:K. Jing;Y. Q. Zhuang;Z. R. Li
- 通讯作者:Z. R. Li
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- 作者:李飞;张树君;李振荣;徐卓
- 通讯作者:徐卓
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- 发表时间:--
- 期刊:无机材料学报, 2006, 21 (5), 1177-1133
- 影响因子:--
- 作者:冯亚军;徐卓;李振荣;张麟;姚
- 通讯作者:姚
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