Si衬底上InGaP/GaAs/Ge和InGaP/GaAs/SiSnGe/Ge多结太阳能电池材料生长与器件制备研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:61006046
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:21.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0403.半导体光电子器件与集成
- 结题年份:2013
- 批准年份:2010
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2011-01-01 至2013-12-31
- 项目参与者:余晨辉; 何清华; 宋明辉; 刘成; 张进; 李玉涟;
- 关键词:
项目摘要
化合物半导体多结太阳能电池因其高转换效率、高可靠性等特点,有着广阔的应用前景,是目前光伏领域的研究热点。然而,传统三结太阳能电池InGaP/GaAs/Ge还存在成本高昂、转换效率可进一步提高等问题。本课题拟采用基于特殊表面活性剂(GeH3)2CH2的气源分子束外延生长技术,显著降低表面自由能,有效促进Ge的二维生长,获得高质量且较厚的大偏角Si衬底Ge薄膜。并在其上制备Si衬底InGaP/GaAs/Ge三结太阳能电池,从而达到降低成本的目的。为了进一步通过子电池数目的增加提高多结太阳能电池的转换效率,采用基于超高活性SnD4的高真空化学气相沉积方法,以Si衬底Ge外延薄膜为基底,在热力学非平衡态下生长与Ge晶格匹配、带隙宽度约为1.0eV的SiSnGe子电池材料,并将其插入GaAs和Ge子电池之间,从而制备出高性能Si衬底InGaP/GaAs/SiSnGe/Ge四结太阳能电池。
结项摘要
本项目为解决传统Ge衬底InGaP/GaAs/Ge化合物半导体多结太阳能电池存在的价格昂贵,效率可进一步提升的问题,在材料生长技术和器件结构设计上提出了以下两种可能解决方法:(1) 在降低成本方面, 采用Si衬底Ge薄膜取代Ge衬底。(2) 在提升转换效率方面,可通过在InGaP/GaAs/Ge三结电池结构的GaAs子电池和Ge子电池中插入一个带隙在1.0eV左右,同时和Ge晶格匹配的子电池,形成四结级联结构来获得。对于前者,本项目利用MBE系统在Si衬底上制备了较高质量的Ge薄膜,其(004)半高宽为180弧秒,表面平整度RMS为0.6nm,为Si衬底Ge薄膜上的多结太阳能电池的研发提供了较好的基础。对于后者,本项目进行了:(1)在Ge基底上生长制备了晶格常数与Ge较为匹配的、带隙约为1.0eV的SiGeSn材料;(2)在Ge/GaAs上制备了带隙约为1.0eV的高密度InAs量子点。另外,本项目还重点研究了Ge基底上GaAs极性材料的生长,结果表面通过采用AlGaAs插入层可以有效改善GaAs材料的表面形貌和晶体质量,并且可以大幅抑制GaAs和Ge之间的互扩散。在上述基础上,最后进行了Si衬底Ge薄膜上多结太阳能电池的生长。
项目成果
期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(7)
Effect of the Al0.3Ga0.7As interlayer thickness upon the quality of GaAs on a Ge substrate grown by metal-organic chemical vapor deposition
金属有机化学气相沉积 Ge 衬底上 Al0.3Ga0.7As 中间层厚度对 GaAs 质量的影响
- DOI:10.1116/1.4809514
- 发表时间:2013
- 期刊:Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena
- 影响因子:--
- 作者:Senlin Li;Qingqing Chen;Jin Zhang;Huiquan Chen;Wei Xu;Hui Xiong;Zhihao Wu;YanYan Fang;Changqing Chen
- 通讯作者:Changqing Chen
Improved Performance of GaN-Based Light-Emitting Diodes via AlInGaN/InGaN Electron-Emitting Layer
通过 AlInGaN/InGaN 电子发射层提高 GaN 基发光二极管的性能
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:Applied Physics Express
- 影响因子:2.3
- 作者:Changqing Chen;Zhihao Wu;Yang Li;Jin Xu;Wei Zhang;Hui Xiong;Yu Tian;Jiangnan Dai;Yanyan Fang
- 通讯作者:Yanyan Fang
Uniform InAs Quantum-dots on vicinal GaAs (100) substrates by pulsed atomic layer epitaxy via metal-organic chemical vapor deposition
通过金属有机化学气相沉积脉冲原子层外延在邻位 GaAs (100) 衬底上形成均匀的 InAs 量子点
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:Optoelectronics and Advanced Materials-Rapid Communications
- 影响因子:0.5
- 作者:Minghui Song;Yanyan Fang;Hui Xiong;Zhihao Wu;Jiangnan Dai;Changqing Chen
- 通讯作者:Changqing Chen
The Effect of AlN Nucleation Temperature on the Growth of AlN Films via Metalorganic Chemical Vapor Deposition
AlN成核温度对金属有机化学气相沉积AlN薄膜生长的影响
- DOI:--
- 发表时间:2012
- 期刊:Journal of Electronic Materials
- 影响因子:2.1
- 作者:Hu Wang;Senlin Li;Hui Xiong;Zhihao Wu;Jiangnan Dai;Yu Tian;Yanyan Fang;Changqing Chen
- 通讯作者:Changqing Chen
Effects of Al0.3Ga0.7As interlayer with pulsed atomic layer epitaxy on heterogeneous integration of GaAs/Ge grown by MOCVD
脉冲原子层外延Al0.3Ga0.7As中间层对MOCVD生长GaAs/Ge异质集成的影响
- DOI:10.1016/j.jallcom.2013.12.092
- 发表时间:2014
- 期刊:Journal of Alloys and Compounds
- 影响因子:6.2
- 作者:Shichuang Sun;Zhiqiang Qi;Huiquan Chen;Xuehua Wang;Wu Tian;Feng Wu;Zhihao Wu;Jiangnan Dai;Changqing Chen
- 通讯作者:Changqing Chen
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