绝缘体上的锗光子晶体激光研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:61107031
- 项目类别:青年科学基金项目
- 资助金额:28.0万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0502.光子与光电子器件
- 结题年份:2014
- 批准年份:2011
- 项目状态:已结题
- 起止时间:2012-01-01 至2014-12-31
- 项目参与者:魏星; 陈明; 杨志峰; 李浩; 汪敬; 仇超; 梁岩;
- 关键词:
项目摘要
硅基光电集成芯片技术近年来得到了前所未有的突破,2010年底IBM发布了除光源之外的硅基光电集成,硅基片上光源成为最后未攻克的难关。最新研究表明锗能通过引入张应变实现间接带隙向直接带隙的转变,而且锗是集成电路兼容的材料,因此该研究被认为是最可能实现硅基片上光源的方案之一,然而目前锗激光还远达不到实用需求,性能亟待提高。本项目创新的提出在绝缘体上的锗(GeOI)衬底上制备悬臂梁和悬浮膜等微机械结构,利用外力控制锗薄层中轴向张应变大小从而引起锗的直接带隙转变,进一步在锗梁或膜上设计加工高Q值二维光子晶体微腔,利用强限制光子晶体微腔的Purcell效应大幅度提高锗光源在通信波段的光增益,并研究外力调节应变对发光波长的调谐作用,实现CMOS兼容的光致发光的片上光源。通过本项目的研究将丰富GeOI材料在光子学的应用,为实现硅基平台的片上光源提供新的思路和实验依据。
结项摘要
硅基光电集成芯片技术近年来得到了前所未有的发展,片上光源成为最后的难题。最新研究表明锗能通过引入张应变实现间接带隙向直接带隙的转变,而且锗是集成电路兼容的材料,因此该研究被认为是最可能实现硅基片上光源的方案之一。本项目在绝缘体上的锗材料上分别研究张应变和n型高掺杂对于锗发光的增强作用,进一步在掺杂的衬底上进行光子晶体和光子晶体微腔的设计和加工,通过研究能带结构和微腔模式分析,提高了锗微纳结构的发光性能,并且通过在不同位置的发光采样实现了对发光波长的调谐作用。本项目完成了光致发光的GeOI片上光源原型器件,既开发了锗材料的纳米加工方法,又掌握了锗材料实现直接发光的机理方法,为实现硅基平台的片上光源提供新的思路和实验依据。项目执行期间发表标注本项目资助的SCI论文11篇,国际会议口头报告或海报4篇,申请专利5项,培养研究生3名。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
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- 发表时间:--
- 期刊:J. Vac. Sci. Technol. A
- 影响因子:--
- 作者:孙剑;武爱民;许宁等
- 通讯作者:许宁等
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