基于X射线诱发激进粒子反应机制的短波增反膜表面碳沉积原位、高效、无损清洗方法的研究
项目介绍
AI项目解读
基本信息
- 批准号:61974142
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:59万
- 负责人:
- 依托单位:
- 学科分类:F0406.集成电路器件、制造与封装
- 结题年份:
- 批准年份:2019
- 项目状态:未结题
- 起止时间:2019至
- 项目参与者:龚学鹏;
- 关键词:
项目摘要

暂未公布
结项摘要

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数据更新时间:2024-06-01
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- 通讯作者:马磊
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