ジシレンジアニオン種を鍵分子とする未踏典型元素共役系分子の創製

使用二硅烯二阴离子物种作为关键分子创建未探索的典型元素共轭系统分子

基本信息

批准号：
22K05085
负责人：
箕浦真生
金额：
$ 2.75万
依托单位：
Rikkyo University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2022
资助国家：
日本
起止时间：
2022-04-01 至 2025-03-31
项目状态：
未结题

项目摘要

本研究課題では、効果的な保護効果が明らかとなった拡張型トリプチシル基(Trp*)をアルキル立体保護基として、新たなケイ素骨格構築のビルディングブロックとなるジシレンジアニオンを合成し、これを鍵化合物として様々な未踏ケイ素骨格を合成する。これら未踏分子群の創製により、新しい化学結合に基づくケイ素骨格形成の新手法創出と新物質創製、ケイ素化学の学理構築に繋げる。第2周期元素に限られていた不飽和・低配位化学結合の学理を、ケイ素を基盤として拡張することで化学結合の本質を明らかとし、学術的知的再生産を行うことを目的として研究を行っている。これまでに、ジポッタッシオジシレンジアニオンを出発として対応するリチウム塩、ナトリウム塩の合成・単離・構造解析に成功している。アルカリ金属対カチオンの違いによる反応性・化学結合への影響について考察を行ない、また、拡張トリプチシル基のベンゼン環のπ電子の対カチオンに与える効果についても検討を行った。これらを用いたケイ素骨格構築検討を行っている過程で、化合物の溶解性が著しく低下し、化合物情報を得ることが困難であることが分った。その解決策として、拡張型トリプチシル基の橋頭位に直鎖アルキル基を導入した置換基を合成し(RTrp*)、溶解性・結晶性の向上を図ることとし、必要な置換基の合成、ケイ素官能基の導入を行った。対応する他の高周期14族元素の導入も併せて検討を開始している。

在本研究项目中，我们将使用已被证明具有有效保护作用的扩展三蝶基（Trp*）作为烷基空间保护基来合成二亚苯基二阴离子，该二亚阴离子将作为构建合成各种未开发的硅骨架作为化合物。这些未经探索的分子基团的创建将导致基于新化学键形成硅骨架的新方法的创建、新材料的创建以及硅化学科学原理的建立。以硅为基础，将仅限于第二周期元素的不饱和低配位化学键理论扩展到澄清化学键的本质，并进行学术智力再现的研究正在进行。到目前为止，我们已经成功地以二钾二亚硅基二阴离子为原料合成、分离并结构分析了相应的锂盐和钠盐。我们考虑了碱金属抗衡阳离子差异对反应性和化学键合的影响，并研究了延伸三蝶基苯环的π电子对抗衡阳离子的影响。在研究利用这些化合物构建硅骨架的过程中，我们发现化合物的溶解度显着下降，使得获取化合物信息变得困难。作为这一问题的解决方案，我们决定合成一种取代基，其中将直链烷基引入到延伸的三蝶烷基（RTrp*）的桥头位置，以提高溶解性和结晶度。我们也开始考虑引入其他高周期14族元素。