Development of a plasma bonding process by reaction control of plasma-liquid interface

通过等离子体-液体界面的反应控制开发等离子体键合工艺

基本信息

批准号：
21K18619
负责人：
Uchida Giichiro
金额：
$ 4.08万
依托单位：
Meijo University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2021
资助国家：
日本
起止时间：
2021-07-09 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

樹脂/金属異材接合のためのプラズマジェット熱圧接法の開発

树脂/金属异种材料等离子射流热压焊接方法的开发

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
内田儀一郎;竹中弘祐;節原裕一
通讯作者：
節原裕一

大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料－金属異材接合技術の開発

常压非平衡等离子体射流有机材料-金属异种材料键合技术的开发

DOI：
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
0
作者：
竹中弘祐;中本壮太郞;小鑓亮輔;都甲将;内田儀一郎;節原裕一
通讯作者：
節原裕一

大気圧プラズマの可視化研究

大气压等离子体可视化研究

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
内田儀一郎
通讯作者：
内田儀一郎

大気圧RFプラズマジェットを用いた異材接合プロセスの開発

使用大气压射频等离子射流开发异种材料连接工艺

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
陣田尭哉;中本壮太郞;都甲将;竹中弘祐;内田儀一郎;節原裕一
通讯作者：
節原裕一

Development of a non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted technology for the direct joining of metals with dissimilar materials

开发用于金属与异种材料直接连接的非热常压等离子体辅助技术

DOI：
10.1016/j.jmapro.2022.01.041
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
6.2
作者：
Kosuke Takenaka; Rikuro Machida; Tetsuya Bono; Akiya Jinda; Susumu Toko; Giichiro Uchida; Yuichi Setsuhara
通讯作者：
Yuichi Setsuhara

DOI：
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作者：
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Uchida Giichiro其他文献

Effects of surrounding gas on plasma-induced downward liquid flow

周围气体对等离子体诱导的向下液体流动的影响

DOI：
10.35848/1347-4065/ab71dc
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Kawasaki Toshiyuki;Nishida Keisuke;Uchida Giichiro;Mitsugi Fumiaki;Takenaka Kosuke;Koga Kazunori;Setsuhara Yuichi;Shiratani Masaharu
通讯作者：
Shiratani Masaharu

Fabrication of high-performance InGaZnOx thin film transistors based on control of oxidation using a low-temperature plasma

基于低温等离子体氧化控制的高性能InGaZnOx薄膜晶体管的制造

DOI：
10.1063/1.5011268
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
4
作者：
Takenaka Kosuke;Endo Masashi;Uchida Giichiro;Setsuhara Yuichi
通讯作者：
Setsuhara Yuichi

Low-temperature formation of high-mobility a-InGaZnOx films using plasma-enhanced reactive processes

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DOI：
10.7567/1347-4065/ab219c
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Takenaka Kosuke;Endo Masashi;Hirayama Hiroyuki;Uchida Giichiro;Ebe Akinori;Setsuhara Yuichi
通讯作者：
Setsuhara Yuichi

Low-temperature formation of c-axis-oriented aluminum nitride thin films by plasma-assisted reactive pulsed-DC magnetron sputtering

等离子体辅助反应脉冲直流磁控溅射低温形成c轴取向氮化铝薄膜

DOI：
10.7567/jjap.57.01ad06
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Takenaka Kosuke;Satake Yoshikatsu;Uchida Giichiro;Setsuhara Yuichi
通讯作者：
Setsuhara Yuichi

Effects of surrounding gas on plasma-induced downward liquid flow

周围气体对等离子体诱导的向下液体流动的影响

DOI：
10.35848/1347-4065/ab71dc
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
1.5
作者：
Kawasaki Toshiyuki;Nishida Keisuke;Uchida Giichiro;Mitsugi Fumiaki;Takenaka Kosuke;Koga Kazunori;Setsuhara Yuichi;Shiratani Masaharu
通讯作者：
Shiratani Masaharu