Pioneering development of fundamental technologies for fabrication of wide bandgap III-group oxide/nitride heterostructures

开创性开发宽带隙III族氧化物/氮化物异质结构的基础技术

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In-situ RF-MBEによるる窒化物構造上AlOx薄膜の結晶成長
原位 RF-MBE 在氮化物结构上晶体生长 AlOx 薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    杉浦 洋平;本田 徹;東脇 正高
  • 通讯作者:
    東脇 正高
Polarized Raman spectra in β-Ga2O3 crystals
β-Ga2O3 晶体中的偏振拉曼光谱
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Onuma;S. Fujioka;T. Yamaguchi;M. Higashiwaki;K. Sasaki;T. Masui;and T. Honda
  • 通讯作者:
    and T. Honda
Polarized Raman spectra in β-Ga2O3 single crystals
  • DOI:
    10.1016/j.jcrysgro.2013.12.061
  • 发表时间:
    2014-09-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    Onuma, T.;Fujioka, S.;Honda, T.
  • 通讯作者:
    Honda, T.
Growth of crystallized AlOx on AlN/GaN heterostructures by in-situ RF-MBE
通过原位 RF-MBE 在 AlN/GaN 异质结构上生长结晶 AlOx
  • DOI:
    10.1016/j.jcrysgro.2014.07.055
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    Yohei Sugiura;Tohru Honda;Masataka Higashiwaki
  • 通讯作者:
    Masataka Higashiwaki
University of Nebraska, Lincoln/University of California, Santa Barbara/Univeristy of Notre Dame(米国)
内布拉斯加大学林肯分校/加州大学圣塔芭芭拉分校/圣母大学(美国)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
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快速冷却含氮碳质材料空间环境暴露实验
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Mannan Abdul;Yamahara Kota;Bagsican Filchito Renee G.;Serita Kazunori;Murakami Hironaru;Kawayama Iwao;Higashiwaki Masataka;Tonouchi Masayoshi;遠藤いずみ,左近樹,尾中敬,癸生川陽子,小林憲正,横尾卓哉,三田肇,矢野創
  • 通讯作者:
    遠藤いずみ,左近樹,尾中敬,癸生川陽子,小林憲正,横尾卓哉,三田肇,矢野創
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  • DOI:
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  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Liang Jianbo;Takatsuki Daiki;Higashiwaki Masataka;Shimizu Yasuo;Ohno Yutaka;Nagai Yasuyoshi;Shigekawa Naoteru
  • 通讯作者:
    Shigekawa Naoteru
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Zn0.2Fe2.8O4 纳米粒子的粒径控制和磁热热效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Liang Jianbo;Takatsuki Daiki;Higashiwaki Masataka;Shimizu Yasuo;Ohno Yutaka;Nagai Yasuyoshi;Shigekawa Naoteru;Jin Sakamoto
  • 通讯作者:
    Jin Sakamoto

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