Atomar maßgeschneiderte Grenzflächen in ultradünnen ferroelektrischen Heterostrukturen - Charakterisierung der elektrischen Nanostrukturen mit Elektronenholographie

超薄铁电异质结构中的原子定制界面 - 利用电子全息术表征电纳米结构

基本信息

项目摘要

Mittels der höchstauflösenden Elektronenholographie soll die elektrische Struktur von dünnen ferro-elektrischen Schichten bestimmt werden, die in nicht-ferroelektrische Schichten eingebettet sind. Die-se Schichten werden im Teilprojekt Dittmann hergestellt und im Teilprojekt Mayer/Jia mit analytischer und hochauflösender (S)TEM-Mikroskopie charakterisiert. Von besonderem Interesse für Herstellung und Leistungsfähigkeit von mikrostrukturierten Ferroelektrika ist die Charakterisierung von Domänen in Nanometer-Dimensionen, die sich in Abhängigkeit von Material, Schichtdicke, aufgewachsenen Elektroden und Störungen im Grenzbereich Elektrode-Ferroelektrikum beispielsweise durch Misfit-Versetzungen ausbilden. Besonderes Interesse unseres Teilprojekts gilt den Abschirm- und Kompen-sationseffekten an den Grenzflächen und dem entsprechenden Verlauf des elektrischen Feldes über ein Schichtsystem. Besondere Herausforderungen ergeben sich daraus, dass die Phase der hologra-phisch rekonstruierten Welle von einer Vielfalt von Eigenschaften des Objektes moduliert wird, so dass eine eindeutige Interpretation der ferroelektrischen Eigenschaften schwierig ist. Die Lösung die-ser Probleme ist das Hauptanliegen dieses Antrags.
Die-se Schichten werden im Teilprojekt Dittmann hergestellt und im Teilprojekt Mayer/Jia 与分析仪和 Hochauflösender (S)TEM-Mikroskopie 特性。材料、Schichtdicke、aufgewachsenen Elektroden 和 Störungen im Grenzbereich Elektrode-Ferroelektrikum beispielsweise durch Misfit-Versetzungen ausbilden。电气和电子领域的电气说明和电气系统的说明。铁电特性的解释。Die Lösung die-ser Probleme ist das Hauptanliegen dieses Antrags。

项目成果

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