局在光場制御及びナノ粒子相互作用を利用した次世代ナノ機能構造一括創製法の開発

利用局部光场控制和纳米粒子相互作用开发下一代纳米功能结构批量创建方法

• 批准号: 18J21820
• 负责人: 増井 周造
• 金额: $ 1.79万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for JSPS Fellows
• 财政年份: 2018
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2018-04-25 至 2021-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18J21820/
• 关键词: 干渉リソグラフィー; 回折格子; 導波モード共振; エバネッセント光; 微細表面構造; ナノ・マイクロ構造

1．二重周期回折格子の回折特性計測さらに，構築した理論モデル実証のために，多重露光干渉リソグラフィーで造形した二重周期回折格子を自身で開発した回折特性計測装置で評価した．二重周期回折格子では，重ね合わせた2つの周期に由来する回折光がかけ合わさった回折光分布を生じる．さらに，複数の回折光スポットでは，回折効率は106倍以上異なるなど，通常の単一周期回折格子の計測と異なる計測装置の特性が要求されることがわかった．そこで，開発した回折特性計測装置では，高ダイナミックレンジのディタクタを用いて，2軸自動回転ステージにより入射角と計測角を独立に0.1度以下の精度で制御した．そして，得られた回折特性は，構築したスカラー回折理論モデルから計算される回折特性との一致を確認した．2．サブ波長格子偏光ビームスプリッタの理論モデル構築また，2020年4月からの国内での緊急事態宣言発令を受け，実験が思うように進まない中でも，2年目までに得られていた，サブ波長格子構造の特異的な低反射ピークを根気強く解析，考察することで，そのメカニズムを明らかにした．そして，従来から知られていた高反射ピークを示す導波モード共振と組み合わせたサブ波長格子からなる偏光ビームスプリッタの理論的なモデルを構築するまでに至った．これらの結果は，米国光学会(Optical Society of America, OSA)の出版するApplied Optics誌へ投稿し，Editor’s Pick(各号10%程度)に選出されるなど，国外でもその研究成果が高く評価されている．

1。通过自身开发的衍射特征测量设备评估了晶格的双层衍射测量测量，这是由多个暴露干扰光刻开发的，以证明构建的理论模型。在双周期衍射晶格的情况下，衍生自两个循环的衍射光的衍射光分布。此外，发现多个衍射灯斑的时间超过106倍，并且通过测量正常的单个周期衍射晶格需要不同测量设备的特性。因此，在开发的衍射特征测量设备中，使用高型动力范围检测器通过两个轴自动旋转阶段独立于0.1度或更低的衍射特征测量手段。确认所获得的衍射特性与根据内置标量衍射理论模型计算得出的衍射特性匹配。 2。从2020年4月开始的日本的紧急宣言，亚波晶格偏光梁的理论模型，即使实验没有按预期进行，这是通过第二年获得的。并考虑结构特异性的低反射峰。然后，它可以建立一个偏光梁分离器的理论模型，该模型由一个副波长晶格组成，并结合了波浪模式的共振，该谐振显示了过去已知的高脱光峰。这些结果已在日本外部进行了高度评估，例如，美国OSA光学学会发布的《应用光学杂志》（每个杂志）（每个杂志）。

项目成果

Fabrication of dual-periodic nanostructures with multi-exposure interference lithography using Lloyd’s mirror

使用劳埃德镜多次曝光干涉光刻制造双周期纳米结构

• 发表时间: 2019
• 作者: S. Masui;M. Michihata;K. Takamasu;S. Takahashi
• 通讯作者: S. Takahashi

階層型微細機能構造創製に関する研究(第2報)インプロセス干渉縞計測による多重干渉リソグラフィーの露光制御

分层精细功能结构创建的研究（第二次报告）使用过程中干涉条纹测量的多重干涉光刻的曝光控制

• 发表时间: 2020
• 作者: Masui Shuzo;Torii Yuki;Michihata Masaki;Takamasu Kiyoshi;Takahashi Satoru;増井周造，門屋祥太郎，道畑正岐，高橋哲;増井周造，道畑正岐，高増潔，高橋哲
• 通讯作者: 増井周造，道畑正岐，高増潔，高橋哲

階層型微細機能構造創製に関する研究(第2報) インプロセス干渉縞計測による多重干渉リソグラフィーの露光制御

分层精细功能结构创建的研究（第二次报告）使用过程中干涉条纹测量的多重干涉光刻的曝光控制

• 发表时间: 2020
• 作者: Takeru FUGONO;Shuzo MASUI;Shotaro KADOYA;Masaki MICHIHATA;and Satoru TAKAHASHI;増井周造，道畑正岐，高増潔，高橋哲
• 通讯作者: 増井周造，道畑正岐，高増潔，高橋哲

Measuring Optical Properties of Advanced Nano/Micro-Periodic Structures Fabricated by Multi-Exposure Interference Lithography

测量多次曝光干涉光刻制造的先进纳米/微周期结构的光学特性

• 发表时间: 2020
• 作者: Shuzo MASUI;Masaki MICHIHATA;Kiyoshi TAKAMASU;and Satoru TAKAHASHI
• 通讯作者: and Satoru TAKAHASHI

Fabrication of Functional Subwavelength Structured Surface Using Evanescent Wave Interference Lithography

使用倏逝波干涉光刻技术制造功能性亚波长结构化表面

• 发表时间: 2018
• 作者: Shuzo Masui;Masaki Michihata;Kiyoshi Takamasu;Toshihiko Shibanuma;Hironao Tanaka;Satoru Takahashi
• 通讯作者: Satoru Takahashi