Development of multicharged ion beam assisted processing technology for high-speed etching of titanium micro mold
钛微模具高速刻蚀多电荷离子束辅助加工技术开发
基本信息
- 批准号:17K06101
- 负责人:
- 金额:$ 3.08万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2017
- 资助国家:日本
- 起止时间:2017-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
デスクトップ型電子サイクロトロン共鳴イオン源用ウィーンフィルタの開発
台式电子回旋共振离子源维恩滤波器的研制
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Toyohisa Asaji;Hiroya Uyama;Takuro Umetsugu;Tsubasa Nakamura;Takeshi Hitobo and Yushi Kato;鵜山博也(富山高専),山崎達瑛(富山高専),浅地豊久(富山高専),人母岳(立山マシン(株)),中村翼(大島商船),加藤裕史(大阪大院)
- 通讯作者:鵜山博也(富山高専),山崎達瑛(富山高専),浅地豊久(富山高専),人母岳(立山マシン(株)),中村翼(大島商船),加藤裕史(大阪大院)
Development of 1.2-GHz ECR ion source and Wien filter for inexpensive ion beam processing system
开发用于廉价离子束处理系统的 1.2 GHz ECR 离子源和维恩滤波器
- DOI:10.1063/1.5127348
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:1.6
- 作者:Asaji Toyohisa;Uyama Hiroya;Umetsugu Takuro;Nakamura Tsubasa;Hitobo Takeshi;Kato Yushi
- 通讯作者:Kato Yushi
デスクトップ型ECRイオン源におけるイオン生成の高効率化
台式 ECR 离子源中离子发生效率高
- DOI:
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Toyohisa Asaji;Hiroya Uyama;Takuro Umetsugu;Tsubasa Nakamura;Takeshi Hitobo and Yushi Kato;鵜山博也(富山高専),山崎達瑛(富山高専),浅地豊久(富山高専),人母岳(立山マシン(株)),中村翼(大島商船),加藤裕史(大阪大院);山崎 達瑛,鵜山 博也,岡崎 陽大,浅地 豊久,人母 岳,加藤 裕史
- 通讯作者:山崎 達瑛,鵜山 博也,岡崎 陽大,浅地 豊久,人母 岳,加藤 裕史
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- 影响因子:0
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澤村淳司,水島裕人
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$ 3.08万 - 项目类别:
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