A Study of Plasma Chemistry Involving Liquid

涉及液体的等离子体化学研究

• 批准号: 21540511
• 负责人: SHIRAFUJI Tatsuru
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Osaka City University (2010-2011)Nagoya University (2009)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21540511/
• 关键词: プラズマ化学; 水中プラズマ; 水浄化; プラズマ; 液体; 反応; シミュレーション; ラジカル; バリア; 放電; 誘電体; 環境; Ar; 水; OHラジカル

In order to establish scientific and technological foundation for materials processes using the plasmas generated in underwater bubbles, we have performed modeling and simulation of the plasma chemical reaction processes involving water and the bubble generation processes. Moreover, on the basis of these achievements, we have proposed a novel underwater plasma process using integrated micro bubbles, and proved its materials processing capability through methylene-blue-decolorization experiments.

为了为利用水下气泡产生的等离子体进行材料加工奠定科学技术基础，我们对涉及水的等离子体化学反应过程和气泡生成过程进行了建模和模拟。此外，在这些成果的基础上，我们提出了一种利用集成微气泡的新型水下等离子体工艺，并通过亚甲蓝脱色实验证明了其材料处理能力。

项目成果

3D integrated micro solution plasmas～Effects of electrical conductivity of liquid medium～

3D集成微溶液等离子体～液体介质电导率的影响～

• 发表时间: 2012
• 作者: T.Shirafuji

Water-repellent thin film deposition using a gas-liquid mixed-phase plasma jet

使用气液混合相等离子体射流沉积防水薄膜

• 发表时间: 2010
• 作者: Y.Takahashi

液中プラズマ発生法,液中プラズマ発生装置,被処理液浄化装置及びイオン含有液体生成装置

液体中等离子体产生方法、液体中等离子体产生装置、处理液净化装置以及含离子液体产生装置

• 发表时间: 2012

Generation of plasmas in porous materials with a gas-liquid mixed phase medium

使用气液混合相介质在多孔材料中产生等离子体

• 发表时间: 2011
• 作者: T.Shirafuji

Superhydrophobic treatment at a local area using atmospheric pressure plasma jet

利用大气压等离子射流进行局部超疏水处理

• 发表时间: 2011
• 作者: Y.Takahashi