Lasergetriebene Manipulation von Adsorbaten auf nicht-rigiden Oberflächen: H:Si als Modellsystem
非刚性表面上吸附物的激光驱动操纵:H:Si 作为模型系统
基本信息
- 批准号:5421790
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Research Grants
- 财政年份:2003
- 资助国家:德国
- 起止时间:2002-12-31 至 2011-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Wenn Wasserstoff auf einer Siliziumoberfläche adsorbiert, so entsteht ein System von beträchtlichem praktischen Interesse - etwa für die Passivierung von Halbleiteroberflächen in der Mikrochipherstellung - welches aber gleichzeitig ein hochinteressantes "Mikrolabor" für die Grundlagenforschung darstellt. In diesem Projekt interessieren wir uns für die gezielte laserinduzierte Manipulation des Adsorbats (Wasserstoff) auf einer Si(100)-Oberfläche, speziell für (1) die Vibrationsanregung der H-Si-Bindung durch IR-Pulse bei gleichzeitiger Relaxation, (2) Photodesorption von H mittels IR und/oder UV-Pulsen, und (3) die laterale Verschiebung von H-Atomen auf der Oberfläche. Mit Hilfe quantenmechanischer Methoden (ab initio Quantenchemie, Wellenpaketdyanmik, Dichtematrixtheorie offener Quantensysteme) soll v.a. die Dynamik dieser Prozesse möglichst parameterfrei und unter Berücksichtigung der Ankopplung des Adsorbats an die Gitterschwingungen des Substrats studiert werden. Die Behandlung der Adsorbatdynamik auf solchen nicht-rigiden Oberflächen verlangt als starke methodische Komponente die Weiterentwicklung multidimensionaler quantendynamischer Verfahren.
Wenn Wasserstoff auf einer Siliziumoberfläche adsorbiert, so entsteht ein System von beträchtlichem praktischen Interesse - etwa für die Passivierung von Halbleiteroberflächen in der Mikrochipherstellung - welches aber gleichzeitig ein hochinteressantes "Mikrolabor" für die Grundlagenforschung达斯特尔特。 (2) 红外和/或紫外脉冲的光解吸,和 (3) 在 Oberfläche 上的 H 原子横向分析。 Prozesse möglichst 参数自由和 Unter Berücksichtigung der Ankopplung des Adsorbats and die Gitterschwingungen des Substrats Studiert werden。
项目成果
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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
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专利数量(0)
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