Water-soluble green resist material derived from biomass in electron beam lithography

电子束光刻中源自生物质的水溶性绿色抗蚀剂材料

• 批准号: 23710149
• 负责人: TAKEI Satoshi
• 金额: $ 3万
• 依托单位: Toyama Prefectural University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23710149/
• 关键词: マイクロナノファブリケーション; リソグラフィ; レジスト; 生物資源; 微細加工; 天然原料; 高分子; 電子材料; 機能材料; バイオマス原料; 糖鎖誘導体

This report presents progress in the study ofa novel water-soluble green resist material derived from biomass in electron beam lithography. The approach to apply the main compounds to the plant-based raw materials in the resist material was demonstrated in the lithographic processes, in order to improve high exposure sensitivity and lower film thickness shrinkage by electron beam irradiation. The images of 100-200 nm line pattern with exposure dose of 7.0 μC/cm2were obtained using the resist layer with plant-based raw materials by specific process conditions of 75 keV electron beam lithography tool. Lower film thickness shrinkage of the developed resist material than that of the referenced acrylate type resist material was one of key to achieve the advanced lithography. The technologies using the obtained resist material and the specific process conditions of advaenced lithography are expected for environmentally-compatible nano device fabrications.

该报告在研究电子束光刻中衍生自生物量的新型水溶性绿色抗性材料的研究中提出了进展。在光刻过程中证明了将主要化合物应用于抗性材料中植物原材料的方法，以提高电子束辐射的高暴露敏感性和较低的膜厚度收缩。通过75 KEV电子束岩石仪工具的特定过程条件，使用抗抗压层的抗性层获得了100-200 nm线模式的图像，其暴露剂量为7.0μc/cm2。发达的抗性材料的薄膜厚度收缩比参考的丙烯酸类型抗材料的收缩是实现高级岩性摄影的关键之一。对于环境兼容的纳米装置造型，预计使用所获得的抗材料的技术和预期岩性的特定过程条件。

项目成果

Eco-friendly electron beam lithography using water-developable resist material derived from biomass

使用源自生物质的可水显影抗蚀剂材料的环保电子束光刻

• 发表时间: 2012
• 期刊: Appl. Phys. Lett
• 作者: Satoshi Takei;Akihiro Oshima;Takanori Wakabayashi;Takahiro Kozawa;and Seiichi Tagawa
• 通讯作者: and Seiichi Tagawa

バイオマス原料を用いた微細加工用レジスト材料の開発

使用生物质原料开发微细加工用抗蚀剂材料

• 发表时间: 2014
• 作者: 谷口知大;今村裕志;Satoshi Takei;竹井 敏;竹井 敏;竹井 敏;竹井 敏
• 通讯作者: 竹井 敏

Development of water-developable resist material derived from biomass in EB lithography

在 EB 光刻中开发源自生物质的水可显影抗蚀剂材料

• 发表时间: 2013
• 作者: Satoshi Takei;Akihiro Oshima;Tomoko G. Oyama;Takumi Ichikawa;Atsushi Sekiguchi;Miki Kashiwakura;Takahiro Kozawa;and Seiichi Tagawa
• 通讯作者: and Seiichi Tagawa

トウモロコシでん粉を用いた水現像性微細加工用ネガレジスト材料の開発

使用玉米淀粉开发用于微加工的水可显影负性抗蚀剂材料

• 发表时间: 2012
• 作者: 島田裕介;安井良;青木健一;竹井 敏;竹井 敏
• 通讯作者: 竹井 敏