Defect Engineeringによるシリサイド系熱電変換材料の特性改善
通过缺陷工程改善硅化物基热电转换材料的性能
基本信息
- 批准号:03F03247
- 负责人:
- 金额:$ 0.77万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:2003
- 资助国家:日本
- 起止时间:2003 至 2004
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
熱電変換材料として期待される遷移金属のシリサイドRu_2Si_3を取り上げ2元系単結晶を作製し,斜方晶の方位に依存した熱電変換特性を調べ,さらなる特性向上を目指して合金添加効果を調べた.Ru_2Si_3には冷却過程で1000℃前後に高温相(正方晶)から低温相(斜方晶)への相変態があるため,低温相の単結晶にはb軸を共有しそれを回転軸として90度結晶方位が回転した2つの方位バリアントが存在する.このため,斜方晶の主軸のうち,b軸([010])のみが独立であり,a([100]),c ([001])軸は混合されたものとなっており,[010]と[100]/[001]の2方位について特性を測定した.両方位とも300-500μV/Kの高いゼーベック係数を示し,熱伝導度も2-7 W/mKと低く良好な特性を示すが,電気抵抗が10^<-3>-10^<-1>台と高い.電気抵抗は高温では[010]方位で[100]/[001]方位のおよそ半分となり,その結果,無次元性能指数が高くなる.[010]および[100]/[001]方位の無次元性能指数の最高値は,それぞれ0.22,0.05であり更なる特性の改善が必要である.これを改善すべく,Ru_2Si_3のチムニーラダー構造のナノ制御を価電子数に着目して行った.ReはRuより価電子数が少なくn型伝導が実現する可能性があり,R_e4S_i7を形成するためRe添加に伴い金属/Si比が連続的に変化し,チムニーラダー構造の周期変化から熱電特性に変化が見込まれる.現実にRe添加に伴い異なる周期構造を持ったチムニーラダー構造が観察され,熱伝導率の低下が観察された.しかし,電気抵抗の低減は少量のRe添加では実現せず,12%以上の大量のRe添加を必要とする.
我们制备了有望用作热电转换材料的过渡金属硅化物Ru_2Si_3的二元单晶,并研究了取决于斜方晶体取向的热电转换特性,并研究了合金添加的影响,以进一步提高热电转换性能。 Ru_2Si_3在冷却过程中具有高温相(1000℃左右)。由于存在从低温相(斜方晶系)到低温相(斜方晶系)的相变,因此低温相单晶中有两种取向变体,它们共享 b 轴并将晶体取向旋转以它为旋转轴90度,因此,斜方晶体的主轴中,只有b轴([010])是独立的,a([100])、c轴。 ([001])轴是混合的,并且测量了两个方向的特性:[010]和[100]/[001]两个方向都表现出300-500μV/K的高塞贝克系数,热导率也很高。 2-7它表现出低至W/mK的良好特性,但电阻高达10^<-3>-10^<-1>。在高温下,电阻在[010]方向和[ 100]/[001]方向的结果是,无量纲品质因数变高。 [010]和[100]/[001]取向的无量纲品质因数最高值分别为0.22和0.05,需要进一步改善性能并控制价电子的数量。 Re的价电子数比Ru少,具有实现n型导电的潜力,并且金属/Si比例随着Re的添加而不断变化,形成R_e4S_i7,导致烟囱梯结构发生变化。由于周期性变化而产生的热电特性实际上,随着Re的添加,观察到具有不同周期结构的烟囱梯结构,并且观察到热导率降低,但是,少量Re添加并没有实现电阻的降低,并且降低了电阻。 12%的Re需要添加大量。
项目成果
期刊论文数量(6)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Defect Engineering for Propertiy Improvement of Some Thermoelectric Intermetallics
某些热电金属间化合物性能改进的缺陷工程
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Inui
- 通讯作者:H.Inui
Anisotropy of Mobility Ratio Between Electron and Hole along Different Orientations in Binary and Ge Doped ReSi_ Single Crystals
二元及Ge掺杂ReSi_<1.75>单晶中电子与空穴沿不同取向的迁移率各向异性
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Inui
- 通讯作者:H.Inui
Directional Thermoelectric Properties of Ru_2Si_3
Ru_2Si_3的定向热电性能
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Inui
- 通讯作者:H.Inui
The Effect of Re Additions on the Structure and Thermoelectric Properties of Ru_2Si_3
Re添加对Ru_2Si_3结构和热电性能的影响
- DOI:
- 发表时间:2005
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Inui
- 通讯作者:H.Inui
Vacancy Studies in Silicon-Rich Intermetallic Compounds : MoSi_2
富硅金属间化合物的空位研究:MoSi_2
- DOI:
- 发表时间:2004
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Inui
- 通讯作者:H.Inui
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