Dose simulation surrounding dental implants in radiotherapy

放射治疗中牙种植体周围的剂量模拟

• 批准号: 21592405
• 负责人: NAITOH Munetaka
• 金额: $ 2.66万
• 依托单位: Aichi Gakuin University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21592405/
• 关键词: 線量; シミュレーション; 歯科インプラント; 下顎モデル; 放射線治療

It is important that distribution of radiation doses surrounding dental implants were clarified in radiotherapy. Dose simulation in radiotherapy to tongue was performed using Monte Carlo technique. Also, doses surrounding dental implants were measured using^<137> Cs radiation source and thermoluminescence dosimeter(TLD).In dose simulation, absorbed doses with dental implants in source side were larger in comparison with those without dental implants. Maximum increase of absorbed dose with dental implants was approximately 40% in 6MV-X-ray and 20% in 0.412MeV-ganma ray, respectively.In measurement using TLD, absorbed dose with dental implants decreased 47.9% in buccal side.

在放射治疗中明确牙种植体周围辐射剂量的分布非常重要。使用蒙特卡罗技术进行舌放射治疗的剂量模拟。另外，使用137 Cs辐射源和热释光剂量计(TLD)测量牙种植体周围的剂量。在剂量模拟中，源侧有牙种植体的吸收剂量比没有牙种植体的吸收剂量更大。 6MV-X射线中种植牙吸收剂量的最大增加约为40%，0.412MeV-ganma射线中种植牙吸收剂量的最大增加分别约为20%。在使用TLD的测量中，颊侧种植牙吸收剂量减少了47.9%。

项目成果

放射線治療におけるインプラントからの散乱線シミュレーション

放射治疗中植入物散射辐射的模拟

• 发表时间: 2009
• 作者: 後藤賢一;小山修司;森下祐樹;内藤宗孝;松尾綾江;蛭川亜紀子;横井みどり;奥村信次;有地榮一郎
• 通讯作者: 有地榮一郎