Optical properties of rare-earth doped semiconducting silicides

稀土掺杂半导体硅化物的光学性质

基本信息

  • 批准号:
    20760199
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2008
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2008 至 2009
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

We have investigated optical properties of rare-earth doped semiconducting silicides grown by ion implantation to develop silicon-based optoelectronics devices. Rare-earth ion of Er^<3+> was doped into β-FeSi_2 epitaxial films on Si substrate. The Er-doped β-FeSi_2 showed 1.5μm emission which is a wavelength for fiber optics communications.
我们研究了通过离子注入生长的稀土掺杂半导体硅化物的光学性质,以开发硅基光电子器件,将稀土离子Er^<3+>掺杂到Si衬底上的β-FeSi_2外延薄膜中。掺杂β-FeSi_2的发射波长为1.5μm,这是光纤通信的波长。

项目成果

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专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Band-gap modifications of β-FeSi_2 epitaxial films grown by molecular beam epitaxy
分子束外延生长β-FeSi_2外延薄膜的带隙修饰
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    清王義弘;藤沢浩訓;清水勝;米田圭佑;長副亮他;Keiichi Noda
  • 通讯作者:
    Keiichi Noda
β-FeSi_2エピタキシャル膜における直接遷移端の温度依存性
β-FeSi_2外延薄膜直接过渡边缘的温度依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    長副亮;住井亮介;藤沢浩訓;清水勝;小高康稔;本田耕一郎;野田慶一
  • 通讯作者:
    野田慶一
Si(111)基板上のβ-FeSi2エピタキシャル膜におけるフォトリフレクタンス評価
Si(111)衬底上β-FeSi2外延薄膜的光反射评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    野田慶一;米田圭佑;寺井慶和;藤原康文
  • 通讯作者:
    藤原康文
Photoluminescence properties of Er-doped β-FeSi_2 grown by ion implantation
离子注入生长掺铒β-FeSi_2的光致发光特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y.Terai;K.Noda
  • 通讯作者:
    K.Noda
RDE法により作製したAl添加β-FeSi2エピタキシャル膜の結晶構造解析
RDE法制备Al掺杂β-FeSi2外延薄膜的晶体结构分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    野田慶一;寺井慶和;橋本正太郎;藤原康文
  • 通讯作者:
    藤原康文
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    $ 2.58万
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