Effect of cooling rate on the microstructure and transformation temperature in Ti-based shape memory alloys

冷却速率对钛基形状记忆合金显微组织和相变温度的影响

• 批准号: 19760461
• 负责人: MATSUDA Mitsuhiro
• 金额: $ 1.93万
• 依托单位: Kumamoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2007 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19760461/
• 关键词: 形状記憶合金; マルテンサイト変態; 冷却速度; 透過型電子顕微鏡; 逆位相境界; Ti-Ni合金; 急速凝固薄帯; 規則度; Ti-Pd合金; 逆位相界面; HAADF-STEM法

Ti-NiおよびTi-Pd形状記憶合金の微細構造と変態温度におよぼす冷却速度の影響について調査した。急速凝固薄帯の試料において、冷却速度の増加に伴いマルテンサイト変態温度は低下した。これは母相(B2構造)の規則度の低下、短範囲規則相およびオメガ相の生成に起因したものである。またバルク材において、マルテンサイト変態時に生成する逆位相境界状の組織を新たに発見し、その変位ベクトルおよび生成機構など詳細な解析を行った。

研究了冷却速率对Ti-Ni和Ti-Pd形状记忆合金显微组织和相变温度的影响。在快速凝固带材样品中，马氏体转变温度随着冷却速率的增加而降低。这是由于母相（B2结构）的有序度降低，形成了短程有序相和Ω相。此外，我们还发现了块体材料马氏体相变过程中产生的一种新的反相边界结构，并对其位移矢量和产生机制进行了详细分析。

项目成果

Ti-NiおよびTi-NrPd合金における逆位相界面状組織の形態と結晶学

Ti-Ni 和 Ti-NrPd 合金中反相界面结构的形貌和晶体学

• 发表时间: 2009
• 作者: M. Matsuda;T. Hara and M. Nishida;M. Matsuda;松田光弘
• 通讯作者: 松田光弘

Transmission Electron Microscopy of Antiphase Boundary-Like Structure Induced by Displacive Transformation in Ti-Pd Shape Memory Alloy

Ti-Pd形状记忆合金中位移相变诱导的反相边界结构的透射电子显微镜

• 发表时间: 2008
• 作者: M. Matsuda;T. Hara and M. Nishida;M. Matsuda;松田光弘;M. Matsuda
• 通讯作者: M. Matsuda

Transmission Electron Microscopy of Displacive Transformation Induced Antiphase Boundary-Like Structure in Ti-Pd Shape Memory Alloy

Ti-Pd 形状记忆合金中位移相变诱导反相边界结构的透射电子显微镜

• 发表时间: 2007
• 作者: M. Matsuda;T. Hara and M. Nishida;M. Matsuda;松田光弘;M. Matsuda;松田光弘;松田光弘;蔵本和彦;M. Matsuda
• 通讯作者: M. Matsuda

Ti-Ni合金のマルテンサイト相における逆位相界面状組織の形態と結晶学

Ti-Ni合金马氏体相反相界面结构的形貌和晶体学

• 发表时间: 2008
• 作者: M. Matsuda;T. Hara and M. Nishida;M. Matsuda;松田光弘;M. Matsuda;松田光弘;松田光弘;蔵本和彦
• 通讯作者: 蔵本和彦

Ti-Pd合金における変位型変態によって誘起された逆位相界面状組織

Ti-Pd合金中位移型相变引起的反相​​界面结构

• 发表时间: 2007
• 作者: M. Matsuda;T. Hara and M. Nishida;M. Matsuda;松田光弘;M. Matsuda;松田光弘;松田光弘;蔵本和彦;M. Matsuda;松田光弘
• 通讯作者: 松田光弘